[發明專利]一種磁顆粒清洗裝置

無效

• 申請號: 201310602274.3
• 申請日: 2013-11-25
• 公開（公告）號: CN103639145A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 王麗娜
• 申請（專利權）人: 湖州市妙西鎮資產經營有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12
• 代理公司: 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙) 33232
• 代理人: 趙衛康

技術領域

本發明涉及加工設備領域，具體為一種磁顆粒清洗裝置。

背景技術

通常圓形的磁顆粒在成型后需要做進一步的處理，才能使其性能進一步提高，而且也便于后期的灌磁，其中清洗是一個很重要的步驟，清洗不夠恰當容易損傷磁性元件并導致最后的磁顆粒性能變成，而且現有的清洗裝置的效率較低、效果較差，清洗過程振動較大，對元件損傷較大，清洗效果也不好。

發明內容

本發明的目的是提供一種清洗效率高且清洗效果好的磁顆粒清洗裝置。

本發明的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：一種磁顆粒清洗裝置，包括工作臺、設置在所述工作臺上清洗機和位于所述清洗機的出口端一側的收取槽，工作臺上還設置有一條穿過清洗機至收取槽的滑道，所述滑道從清洗機的外端延伸進入清洗機的進口端，經過清洗機并從清洗機的出口端延伸至收取槽，所述滑道由設置在底部的底邊和設置在底邊兩側的擋邊構成，所述底邊和擋邊在它們的連接處圓滑過渡，所述底邊上開有細孔，位于所述滑道的下方設有噴嘴對著所述細孔的噴水槍，所述滑道上方還設有穿過所述清洗機至所述收取槽的限位板，所述限位板的下表面上帶有毛刷。通過滑道的設計能使磁性元件整個清洗過程更加通暢，效率更高，而且磁性元件在清洗過程中比較穩定，不會產生較大的晃動而產生飛離機器或者碰傷元件的情況，滑道下方的噴水槍在磁顆粒進入清洗機前后對磁顆粒可以分別進行預清洗和二次清洗，對表面的碎屑和雜質去除更加徹底，再進入清洗機后清洗效果會更好，磁顆粒的性能也更加良好，毛刷可以進一步提高磁顆粒邊緣的清洗效果。

作為對本發明的優選，噴水槍固定于旋轉電機的轉軸上。該優選可以讓噴水槍噴出的水帶有旋轉力，可以起到很好的清洗效果。

作為對本發明的優選，滑道從清洗機的外端先呈傾斜狀延伸并通過一個彎折部轉折呈水平狀連通至清洗機的進口端。該優選可以讓圓形的磁顆粒順暢地進入清洗機內，而且有一個很好的清洗過程，提高清洗效果。

作為對本發明的優選，彎折部呈弧形彎折狀。有效保護清洗過程中的磁顆粒，減少損傷率。

作為對本發明的優選，清洗機為超聲波清洗機。

作為對本發明的優選，限位板為彈性板。既能有效對磁顆粒限位，又能較好地起到保護作用。

作為對本發明的優選，滑道兩側還設有噴水槍。加強清洗效果。

本發明的有益效果是：該清洗裝置使得圓形的磁顆粒可以自行完成整個清洗過程，在滑道和限位板的引導下，磁顆粒在清洗時能穩定地運行且不容易損傷磁顆粒本身，而且碎屑和雜質清除比較徹底，清洗效率比較高、清洗效果好，使得磁顆粒的整體質量得到很大的提升。

附圖說明

圖1是本發明實施例1的主視圖；

圖2是本發明實施例1中滑道的截面圖。

圖中：1、工作臺，2、清洗機，3、滑道，30、彎折部，31、細孔，32、噴水槍，33、旋轉電機，4、限位板，40、毛刷，12、收取槽。

具體實施方式

以下具體實施例僅僅是對本發明的解釋，其并不是對本發明的限制，本領域技術人員在閱讀完本說明書后可以根據需要對本實施例做出沒有創造性貢獻的修改，但只要在本發明的權利要求范圍內都受到專利法的保護。

實施例1，如圖1、2所示，一種磁顆粒清洗裝置，包括工作臺1、設置在所述工作臺1上清洗機2和位于所述清洗機2的出口端一側的收取槽12，工作臺1上還設置有一條穿過清洗機2至收取槽12的滑道3，所述滑道3從清洗機2的外端延伸進入清洗機2的進口端，經過清洗機2并從清洗機2的出口端延伸至收取槽12，所述滑道3由設置在底部的底邊和設置在底邊兩側的擋邊構成，所述底邊和擋邊在它們的連接處圓滑過渡，所述底邊上開有細孔31，位于所述滑道3的下方設有噴嘴對著所述細孔31的噴水槍32，所述滑道3上方還設有穿過所述清洗機2至所述收取槽12的限位板4，所述限位板4的下表面上帶有毛刷40。噴水槍32固定于旋轉電機33的轉軸上。滑道3從清洗機2的外端先呈傾斜狀延伸并通過一個彎折部30轉折呈水平狀連通至清洗機2的進口端。彎折部30呈弧形彎折狀。清洗機2為超聲波清洗機。限位板4為彈性板。滑道3兩側還設有噴水槍32。

????操作員只需要打開清洗機和電機的電源，然后將圓形的磁顆粒從滑道3位于清洗機2的外端一側的入口投入，讓其自行進入整個清洗裝置，另外還需一個操作員在收取槽12處進行收取操作即可。