[發(fā)明專利]等離子體處理裝置及其隔離裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310596754.3
• 申請(qǐng)日: 2013-11-22
• 公開（公告）號(hào): CN104658845A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 左濤濤;吳狄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/32
• 分類號(hào): H01J37/32;H05H1/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 王潔

1.一種用于等離子體處理裝置的機(jī)械隔離裝置，其設(shè)置在等離子體處理裝置的基片傳輸門和襯墊之間，其中，所述基片傳輸門設(shè)置于所述等離子體處理裝置的側(cè)壁上，所述襯墊是環(huán)狀的，其從所述等離子體處理裝置的頂蓋上方延伸入腔室內(nèi)部并設(shè)置于所述基片上方的周圍，在所述襯墊上設(shè)置有一開口，其中，所述機(jī)械隔離裝置包括:

擋片，其形狀能夠完全擋住所述基片傳輸門和所述襯墊的開口，所述擋片下方連接有一支撐柱；

伸縮裝置，所述支撐柱穿過所述伸縮裝置；

上支撐板，其設(shè)置于所述波紋管上方，其另一端固定于腔室側(cè)壁上；

下支撐板，其設(shè)置于所述波紋管下方；

設(shè)置于所述上支撐板和所述下支撐板之間的執(zhí)行裝置，所述執(zhí)行裝置能夠上下移動(dòng)，并通過所述下支撐板帶動(dòng)支撐柱上下移動(dòng)，以使得所述擋片上下移動(dòng)，從而控制所述基片傳輸門和所述襯墊開口的連通與否，

其中，所述支撐柱下方連接有加熱裝置，所述支撐柱和加熱裝置通過金屬線相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述伸縮裝置包括波紋管。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述機(jī)械隔離裝置還包括一冷卻液循環(huán)裝置，其分別通過冷卻液輸入管和冷卻液輸出管連接于所述執(zhí)行裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述加熱裝置和所述冷卻液循環(huán)裝置還分別連接有一控制裝置，所述控制裝置用于控制加熱裝置和所述冷卻液循環(huán)裝置的工作從而控制所述機(jī)械隔離裝置的擋片的溫度。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述擋片的溫度由所述控制裝置根據(jù)具體制程需要進(jìn)行設(shè)定。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述加熱裝置為電源裝置，其能夠通過所述金屬線向所述支撐柱傳遞熱量，從而加熱所述擋片。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述執(zhí)行裝置為氣缸。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述擋片的形狀為弧形流線結(jié)構(gòu)，且厚度不均勻，所述支撐柱連接于所述擋片的質(zhì)點(diǎn)上。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述擋片的形狀及其質(zhì)點(diǎn)應(yīng)根據(jù)所述等離子體處理裝置的形狀和基片的大小確定。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述支撐柱是由熱傳導(dǎo)材料制成的。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械隔離裝置，其特征在于，所述支撐柱是由鋁制成的。

12.一種等離子體處理裝置，其特征在于，所述等離子體處理裝置包括權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述的機(jī)械隔離裝置。