[發(fā)明專利]基于豎直排列半導(dǎo)體納米線的光電探測器制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310591009.X | 申請日: | 2013-11-21 |
| 公開(公告)號: | CN103681962A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 夏輝;李天信;姚碧霂;盧振宇;陳平平 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海新天專利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
| 地址: | 200083 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 豎直 排列 半導(dǎo)體 納米 光電 探測器 制備 方法 | ||
1.一種基于豎直排列半導(dǎo)體納米線的光電探測器制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)對豎直排列納米線進行絕緣旋涂包裹。采用機械旋涂的方法,旋涂介質(zhì)的粘稠度應(yīng)在300-500mPa之間,固化后介質(zhì)的折射率小于納米線的折射率;
2)對旋涂介質(zhì)的低溫烘焙固化,溫度小于150℃;
3)通過拋光減薄納米線及其支撐介質(zhì),使納米線頂端裸露出來;
4)第一次光刻,制備器件頂端透明電極的圖形結(jié)構(gòu);
5)蒸鍍ITO透明電極、浮膠及退火,以作為豎直排列納米線的頂端接觸電極;
6)第二次光刻,制備延伸電極的圖形結(jié)構(gòu);
7)蒸鍍延伸金屬電極、浮膠、退火,作為納米線的電學(xué)測試用電極;
8)試樣基片形成歐姆接觸,用來作為公共下電極。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





