[發明專利]光學測量系統及提高光學測量系統成像質量的方法

有效

• 申請號: 201310586669.9
• 申請日: 2013-11-20
• 公開（公告）號: CN103630243A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 王云強;李學智;萬繼敏;周健
• 申請（專利權）人: 北京環境特性研究所
• 主分類號: G01J5/00
• 分類號: G01J5/00;G01J5/06;G02B23/00
• 代理公司: 北京市京大律師事務所 11321
• 代理人: 張璐;方曉明

1.一種光學測量系統，其特征在于，該光學測量系統包括：望遠鏡子系統、轉臺控制子系統以及鏡筒遮光罩子系統；

望遠鏡子系統，用于對空間目標對象進行光學特性跟蹤測量，獲取跟蹤圖像；

轉臺控制子系統，用于對望遠鏡子系統輸出的跟蹤圖像進行分析，根據分析結果調整望遠鏡子系統中鏡筒的成像參數，以使望遠鏡子系統對目標對象保持跟蹤；

鏡筒遮光罩子系統，設置于望遠鏡子系統外壁并半包裹望遠鏡子系統，沿望遠鏡子系統中的鏡筒視軸方向具有滑移性，并以鏡筒視軸為軸心轉動；根據實時從望遠鏡子系統獲取的鏡筒視軸方位角、鏡筒視軸俯仰角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的方位角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的俯仰角以及鏡筒直徑，計算鏡筒遮光罩子系統的調節參數，并按照計算得到的調節參數驅動鏡筒遮光罩，以使鏡筒遮光罩遮擋雜散光光源輻射至鏡筒的雜散光。

2.根據權利要求1所述的光學測量系統，其特征在于，所述鏡筒遮光罩子系統為半圓筒形或環形的遮光罩。

3.根據權利要求2所述的光學測量系統，其特征在于，所述鏡筒遮光罩子系統數量為一個或多個，其中，所述多個鏡筒遮光罩子系統依次串連，設置于望遠鏡子系統外壁上。

4.根據權利要求3所述的光學測量系統，其特征在于，所述鏡筒遮光罩子系統內壁涂覆高發射率材料。

5.根據權利要求1至4任一項所述的光學測量系統，其特征在于，所述鏡筒遮光罩子系統包括計算參數獲取模塊、調節參數計算模塊以及調節參數控制模塊；

計算參數獲取模塊，用于實時從望遠鏡子系統獲取鏡筒視軸方位角、鏡筒視軸俯仰角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的方位角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的俯仰角；

調節參數計算模塊，用于根據實時獲取的鏡筒視軸方位角、鏡筒視軸俯仰角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的方位角、雜散光光源相對轉臺控制子系統的俯仰角以及鏡筒直徑，計算鏡筒遮光罩子系統的調節參數；

調節參數控制模塊，用于按照調節參數計算模塊計算得到的鏡筒遮光罩子系統調節參數驅動鏡筒遮光罩子系統。

6.根據權利要求5所述的光學測量系統，其特征在于，所述鏡筒遮光罩子系統調節參數包括：鏡筒遮光罩子系統轉動角度以及鏡筒遮光罩子系統伸出鏡筒長度。