[發(fā)明專利]供應(yīng)用于處理重質(zhì)堵塞進(jìn)料的具有氣體和液體的并流下行流的固定床反應(yīng)器的過(guò)濾分布板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310582376.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103721642A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | F·巴澤-巴希;Y·阿魯恩;M·迪涅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | IFP新能源公司 |
| 主分類號(hào): | B01J8/02 | 分類號(hào): | B01J8/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李連濤;楊思捷 |
| 地址: | 法國(guó)呂埃*** | 國(guó)省代碼: | 法國(guó);FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 供應(yīng) 用于 處理 堵塞 進(jìn)料 具有 氣體 液體 流下 固定床反應(yīng)器 過(guò)濾 分布 | ||
1.具有并流下行氣體-液體流的、具有適用于所述氣體-液體流的分布過(guò)濾板的固定床反應(yīng)器,所述固定床反應(yīng)器可包括沿所述反應(yīng)器設(shè)置的多個(gè)催化劑床,各板位于各催化劑床的上游,所述板是由從頂部到底部的以下元件構(gòu)成:
-穿孔的支撐體(3),所述支撐體不覆蓋所述反應(yīng)器的整個(gè)截面,而留出空的相當(dāng)于所述反應(yīng)器截面的5%至50%,優(yōu)選5%至30%的環(huán)狀區(qū)(11);
-過(guò)濾層(4),所述過(guò)濾層由所述穿孔支撐體(3)支撐;
-整板(2),所述整板位于距穿孔支撐體(3)50mm至150mm范圍的距離處,所述整板包括橫跨過(guò)濾層(4)和整板(2)的多個(gè)大致垂直的分布元件(5),這些分布元件是以長(zhǎng)方形或三角形型式設(shè)置,所述分布元件(5)具有在200mm至400mm范圍內(nèi)的高度,在它們的上端為開(kāi)放以允許氣體進(jìn)入并且包括位于所述分布元件一部分中的至少一排孔,這些孔是在穿孔支撐體(3)和整板(2)之間,從而允許液體進(jìn)入,并且通過(guò)所述分布元件(5)的下端排出所述氣體-液體混合物,
-至少一個(gè)高孔隙率分散元件(7),其位于整板(2)下方,距所述整板(2)20mm至300mm,優(yōu)選50mm至150mm的距離。
2.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中各分布過(guò)濾板具有分布元件(5),所述分布元件是在對(duì)應(yīng)于過(guò)濾層(4)深度的高度部分上被全套管(8)包圍的大致垂直的煙囪。
3.如權(quán)利要求2所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中所述煙囪的間距是在100至300mm范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中穿孔支撐體(3)的過(guò)濾層(4)是由至少一層高度在100mm至300mm范圍內(nèi)的保護(hù)材料顆粒組成。
5.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中位于整板(2)下方的高孔隙率分散元件(7)是以交錯(cuò)方式設(shè)置,并且在述整板(2)下方150mm距離和250mm距離之間交替。
6.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中用于使進(jìn)入所述反應(yīng)器的液體射流分裂的保護(hù)性篩網(wǎng)(6)設(shè)置在過(guò)濾層(4)的上方。
7.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器,其中分散元件(7)是由一組圓錐形的導(dǎo)流器構(gòu)成,各導(dǎo)流器被放置在分布元件(5)的下方。
8.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器的用途,其是用于加氫處理工藝、選擇性加氫工藝、渣油轉(zhuǎn)化工藝、或者具有3至50個(gè),優(yōu)選5至30個(gè)碳原子數(shù)的油餾分的氧化工藝。
9.如權(quán)利要求1所述的用于并流下行氣體-液體流的固定床反應(yīng)器的用途,其是用于使用滴流模式的氣體和液體并流下行流的任何工藝,所述滴流模式即具有在0.1至1.5cm/s范圍內(nèi)的液體表面速度。
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