[發(fā)明專利]氧化鋅陣列的制備方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310575802.0
• 申請日: 2013-11-18
• 公開（公告）號: CN104649311A
• 公開（公告）日: 2015-05-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李征
• 申請（專利權(quán)）人: 李征
• 主分類號: C01G9/02
• 分類號: C01G9/02;B82Y40/00;B82Y30/00;B01J23/06
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于納米材料的制備技術(shù)領(lǐng)域，具體的說本發(fā)明涉及氧化鋅陣列的制備方法。

背景技術(shù)

氧化鋅是一種具有纖鋅礦結(jié)構(gòu)的直接帶隙導(dǎo)體材料室溫下的禁帶寬度為3.37eV,?束縛激子能為60meV,?室溫下易被激發(fā)氧化鋅具有穩(wěn)定性高、毒性小、能阻截紫外光等優(yōu)點(diǎn),?在基底上高度有序生長氧化鋅的納米材料可制作短波激光器和太陽能電池電極，目前,?制備納米陣列的方法很多,有基于氣-液-固生長機(jī)理的方法、化學(xué)氣相沉積法、電化學(xué)沉積法、濕化學(xué)法、模板法等等。但是，這些方法產(chǎn)出的納米氧化鋅陣列取向一致性不好，粒徑不平均、催化效果受到很大影響，而且產(chǎn)率低，生產(chǎn)成本高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明就是針對上述技術(shù)問題，提供了一種生產(chǎn)效率高，成本低廉，氧化鋅陣列取向一致性好，粒徑均勻的氧化鋅陣列的制備方法。

為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：本發(fā)明的氧化鋅陣列的制備方法，其特征在于：取(CH₂)₆N₄溶于去離子水,?向其中加入Zn(NO₃)₂·6H₂O,配成20-40mL溶液,?使Zn²⁺與(CH₂)₆N₄濃度均為0.1mol/L,?磁力攪拌下,?用氨水調(diào)節(jié)溶液pH值至8.6-11，并置于聚四氟乙烯反應(yīng)釜內(nèi),?倒入上述溶液,?在45-50℃時(shí)反應(yīng)1小時(shí),升溫至80-90℃2小時(shí)，在100℃反應(yīng)3-5分鐘，降溫至60-70℃反應(yīng)40分鐘，降溫至室溫后取出，在致密膜上即覆蓋一層納米氧化鋅陣列膜。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明合成方法簡單，條件溫和，生產(chǎn)成本低廉，生產(chǎn)效率高；產(chǎn)出的納米氧化鋅陣列膜產(chǎn)品一致性好；納米顆粒的粒度為10nm左右，粒徑均勻。具有非常好的催化效果；透光率好。不僅可以在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)進(jìn)行，還可在工廠中大批量生產(chǎn)，對藥品的純度要求低；可以自行制備，成本低廉。

另外，本發(fā)明合成過程中，產(chǎn)物均無毒無害，不會影響環(huán)境和工人的身體健康。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明的氧化鋅陣列的制備方法，其特征在于：取(CH₂)₆N₄溶于去離子水,?向其中加入Zn(NO₃)₂·6H₂O,配成20-40mL溶液,?使Zn²⁺與(CH₂)₆N₄濃度均為0.1mol/L,?磁力攪拌下,?用氨水調(diào)節(jié)溶液pH值至8.6-11，并置于聚四氟乙烯反應(yīng)釜內(nèi),?倒入上述溶液,?在45-50℃時(shí)反應(yīng)1小時(shí),升溫至80-90℃2小時(shí)，在100℃反應(yīng)3-5分鐘，降溫至60-70℃反應(yīng)40分鐘，降溫至室溫后取出，在致密膜上即覆蓋一層納米氧化鋅陣列膜。

實(shí)施例1：取(CH₂)₆N₄溶于去離子水,?向其中加入Zn(NO₃)₂·6H₂O,配成20mL溶液,?使Zn²⁺與(CH₂)₆N₄濃度均為0.1mol/L,?磁力攪拌下,?用氨水調(diào)節(jié)溶液pH值至8.6，并置于聚四氟乙烯反應(yīng)釜內(nèi),?倒入上述溶液,?在45℃時(shí)反應(yīng)1小時(shí),升溫至80℃2小時(shí)，在100℃反應(yīng)3分鐘，降溫至60℃反應(yīng)40分鐘，降溫至室溫后取出，在致密膜上即覆蓋一層納米氧化鋅陣列膜。

實(shí)施例2：取(CH₂)₆N₄溶于去離子水,?向其中加入Zn(NO₃)₂·6H₂O,配成40mL溶液,?使Zn²⁺與(CH₂)₆N₄濃度均為0.1mol/L,?磁力攪拌下,?用氨水調(diào)節(jié)溶液pH值至11，并置于聚四氟乙烯反應(yīng)釜內(nèi),?倒入上述溶液,?在50℃時(shí)反應(yīng)1小時(shí),升溫至90℃2小時(shí)，在100℃反應(yīng)5分鐘，降溫至70℃反應(yīng)40分鐘，降溫至室溫后取出，在致密膜上即覆蓋一層納米氧化鋅陣列膜。