[發明專利]光熱協同可控降解高分子復合母料及其制備方法

有效

• 申請號: 201310575268.3
• 申請日: 2013-11-18
• 公開（公告）號: CN103642109A
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 羅學剛;李科;林曉艷
• 申請（專利權）人: 西南科技大學
• 主分類號: C08L23/06
• 分類號: C08L23/06;C08L25/06;C08L23/12;C08L27/06;C08K13/02;C08K3/22;C08K5/10;C08K5/13;B29C47/92
• 代理公司: 成都蓉信三星專利事務所(普通合伙) 51106
• 代理人: 劉克勤

1.一種光熱協同可控降解高分子復合母料，其特征在于，它的各組分按重量份配比為：光熱敏催化劑?0.5～4份、高分子材料80～95份、抗氧劑0.1～2份、偶聯劑0.025～0.2份。

2.根據權利要求1所述的光熱協同可控降解高分子復合母料，其特征是，所述的光熱敏催化劑是金屬氧化物CuO、Mn₃O₄、Co₃O₄、NiO₄、ZnO、FeO中的兩種或兩種以上按相同重量份配比任意組合，混合磨細至60目，通過700～1300℃高溫燒結2小時，高速粉碎10分鐘后制得的。

3.根據權利要求1所述的光熱協同可控降解高分子復合母料，其特征是，所述的高分子材料是聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯中的任意一種。

4.根據權利要求1所述的光熱協同可控降解高分子復合母料，其特征是，所述的抗氧劑是抗氧劑1010、抗氧劑CA、抗氧劑DNP、抗氧劑MB中的一種或兩種以上任意組合。

5.根據權利要求1所述的光熱協同可控降解高分子復合母料，其特征是，所述的偶聯劑是鈦酸酯偶聯劑、鋁酸酯偶聯劑、硅烷偶聯劑中的一種或兩種以上任意組合。

6.一種權利要求1所述的光熱協同可控降解高分子復合母料的制備方法，其步驟依次是：

????A、光熱敏催化劑制備：按相同重量份配比取兩種或兩種以上的金屬氧化物磨細至60目，混合均勻；將粉末置于馬弗爐中，在空氣氣氛下以2℃/min的升溫速率升溫到700～1300℃，保溫2h，隨爐體自然冷卻；將燒結后的粉末置于高速粉碎機中高速粉碎10min制得光熱敏催化劑；?

B、配料預混：按重量份配比比取光熱敏催化劑0.5～4份，加入偶聯劑0.025～0.2份，在高速混合機中高速混合5分鐘后，再加入高分子材料80～95份和抗氧劑0.1～2份在高速混合機中高速混合15分鐘；

C、熔融共混：將預混料置于雙螺桿擠出機中，在140～220℃熔融共混改性1～5min；

D、擠出造粒：在口模溫度130～200℃，螺桿轉速為20～200轉/分擠出、自然空氣下冷卻、經切粒機造粒即得到光熱協同可控降解高分子復合母料。