[發明專利]制備晶體硅太陽能電池氧化硅膜的方法有效
| 申請號: | 201310574354.2 | 申請日: | 2013-11-15 |
| 公開(公告)號: | CN103594557A | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發明(設計)人: | 倪健雄;李高非;韓帥;蔣京娜 | 申請(專利權)人: | 英利集團有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 吳貴明;張永明 |
| 地址: | 071051 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 制備 晶體 太陽能電池 氧化 方法 | ||
1.一種制備晶體硅太陽能電池氧化硅膜的方法,其特征在于,將硅片置于納米二氧化鈦水分散液中,采用紫外光照射所述硅片,然后將所述硅片取出、烘干。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,將所述硅片置于所述納米二氧化鈦水分散液中之前,進一步包括所述硅片的清洗、制絨、擴散、去除磷硅玻璃、單邊刻蝕以及邊緣絕緣處理。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述納米二氧化鈦水分散液中納米二氧化鈦的平均粒徑為5nm~500nm。
4.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述納米二氧化鈦為金紅石晶體、銳鈦礦晶體或板鈦礦晶體中的一種或多種。
5.根據權利要求3所述的方法,其特征在于,所述納米二氧化鈦水分散液為二氧化鈦質量比為0.5wt%~30wt%的水溶液。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述晶體硅太陽能電池為單晶硅太陽能電池、類單晶太陽能電池、多晶硅太陽能電池和/或基于晶體硅的異質結電池。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述紫外光照射的強度為250~500μW/cm2。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





