[發明專利]安全元件和制造安全元件的方法

有效

• 申請號: 201310573934.X
• 申請日: 2009-04-02
• 公開（公告）號: CN103631125A
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: W·R·湯普金;N·盧茨;M·伯爾克哈德特;M·沙芬伯格
• 申請（專利權）人: 雷恩哈德庫茲基金兩合公司
• 主分類號: G03H1/00
• 分類號: G03H1/00;G03H1/02;G03H1/04;G03H1/28;B42D25/30
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 俞海舟

1.安全元件（92，95，97），其為多層的薄膜體、特別是層疊薄膜或轉印薄膜的形式，具有一面向觀察者的正面和一體積全息照相，該體積全息照相提供一第一光變信息；其特征在于，安全元件（92，95，97）具有一復制層（11），在該復制層的表面中成型一凸紋結構（22，23，24），該凸紋結構在一個或多個第一區域（71）內具有大于10μm的凸紋深度并且在一個或多個第二區域（72）內具有小于2μm的凸紋深度，并且凸紋結構（22，23，24）在復制層（11）的第一區域（71）內用一體積全息照相材料填充，在該體積全息照相材料中記錄了體積全息照相。

2.按照權利要求1所述的安全元件（92，95，97），其特征在于，在第一區域（71）內設置的體積全息照相材料的層厚度與在第二區域（72）內設置的體積全息照相材料的層厚度相差至少8μm、優選至少15μm。

3.按照權利要求1或2所述的安全元件（92，95），其特征在于，在第二區域（72）內基本上不設置體積全息照相材料，特別是不設置任何體積全息照相材料。

4.按照權利要求1至3之一項所述的安全元件，其特征在于，在第一區域（71）內設置的體積全息照相材料構成一局部的體積全息照相層（12），在該局部的體積全息照相層中寫入體積全息照相。

5.按照權利要求1至4之一項所述的安全元件，其特征在于，第一區域（71）具有小于400μm和/或大于20μm的最小尺寸。

6.按照權利要求1至5之一項所述的安全元件，其特征在于，在安全元件的至少一個第一范圍的面積上的第一區域的面積份額不同于在安全元件的至少一個第二范圍的面積上的第一區域的面積份額。

7.按照權利要求6所述的安全元件，其特征在于，第一范圍和第二范圍設置用以改變體積全息照相的各象素的亮度。

8.按照權利要求6或7所述的安全元件，其特征在于，將第一區域設置在一個一維的或兩維的網格中并且在安全元件的所述至少一個第一范圍內的網格寬度和/或由相應的第一區域占據的面積不同于在安全元件的所述至少一個第二范圍內的網格寬度和/或由相應的第一區域占據的面積。

9.按照權利要求1至8之一項所述的安全元件（95，97），其特征在于，凸紋結構（23，24）在第二區域（72）內或在第二區域的部分區域內具有多個結構元件，所述結構元件提供一第二光變信息。

10.按照權利要求9所述的安全元件（95，97），其特征在于，所述在第二區域（72）或第二區域的部分區域內的結構元件構成衍射結構、折射結構或無光澤結構。

11.按照權利要求1至10之一項所述的安全元件（95，97），其特征在于，在第二區域（72）內或在第二區域的部分區域內設置一金屬層（13），并且該金屬層（13）不設置在第一區域（71）內。

12.用于制造安全元件（92，95，97）的方法，其為多層的薄膜體、特別是層疊薄膜或轉印薄膜的形式，具有面向觀察者的正面；其特征在于，提供多層體（91，94，96），其包括一復制層（11），在復制層的表面中成型一凸紋結構（22，23，24），該凸紋結構具有一個或多個具有大于10μm的凸紋結構（22，23，24）凸紋深度的第一區域（71）和一個或多個具有小于2μm的凸紋結構（22，23，24）凸紋深度的第二區域（72），用體積全息照相材料填充復制層（11）的第一區域（71）并且將體積全息照相材料曝光以便記錄一體積全息照相。

13.按照權利要求12所述的方法，其特征在于，將體積全息照相材料以液態形式加設在多層體上并且將體積全息照相材料用刮刀刮入在第一區域（71）中的凸紋結構內。

14.按照權利要求12或13所述的方法，其特征在于，將一金屬層（13）在第二區域（72）內加設到多層體上。

15.按照權利要求14所述的方法，其特征在于，將金屬層（13）在第二區域（72）內全面地加設。

16.按照權利要求14所述的方法，其特征在于，將金屬層（13）在第二區域（72）內局部地加設。