[發明專利]以氫氣作為滅弧介質的滅弧室無效
| 申請號： | 201310567678.3 | 申請日： | 2013-11-15 |
| 公開（公告）號： | CN103560045A | 公開（公告）日： | 2014-02-05 |
| 發明（設計）人： | 邵冬陽 | 申請（專利權）人： | 中國電子科技集團公司第四十研究所 |
| 主分類號： | H01H33/664 | 分類號： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 233010 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氫氣 作為 介質 滅弧室 | ||
【權利要求書】：
1.以氫氣作為滅弧介質的滅弧室，包括相對配置的動觸頭和靜觸頭，所述動觸頭套接在動觸桿上端，動觸桿下端固定在銜鐵上，所述動觸頭和靜觸頭封裝在密封腔內，其特征在于：所述密封腔內填充3～4個大氣壓的氫氣。
2.如權利要求1所述的以氫氣作為滅弧介質的滅弧室，其特征在于：所述密封腔由陶瓷外殼、可伐環和金屬密封體圍成，可伐環上有用于填充氫氣的封排管。
3.如權利要求2所述的以氫氣作為滅弧介質的滅弧室，其特征在于：所述靜觸頭通過過渡環固定在陶瓷外殼上。
4.如權利要求2所述的以氫氣作為滅弧介質的滅弧室，其特征在于：銜鐵外有導向套，導向套與金屬密封體固定連接，銜鐵與金屬密封體間有間隙。
5.如權利要求1所述的以氫氣作為滅弧介質的滅弧室，其特征在于：動觸頭上端有一個上擋圈，動觸頭下端有一個下擋圈，上擋圈和下擋圈都固定在動觸桿上，下擋圈與動觸頭間有彈簧。
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