[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備

無效

• 申請號: 201310567231.6
• 申請日: 2013-11-14
• 公開（公告）號: CN103809397A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 姉崎隆志;志田和久;西將史;云井郭文;田中大介;杉山和道
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03G5/047
• 分類號: G03G5/047;G03G21/18
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

技術領域

本發明涉及一種電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備。

背景技術

用于電子照相設備中的電子照相感光構件通常包含有機光電導性物質(電荷產生物質)。當電子照相設備形成圖像時，電的和機械的外力如用于充電、曝光、顯影、轉印和清潔的那些，直接施加至電子照相設備的電子照相感光構件上。從而，電子照相感光構件必須能夠耐受這些電的和機械的外力。電子照相感光構件還應具有可降低對接觸構件(如清潔刮板)的摩擦力(增加潤滑性)的表面。

為增加潤滑性，日本專利特開No.2008-195905和No.2006-328416提出了一種將特定的硅氧烷改性聚碳酸酯樹脂(具有硅氧烷結構)引入至電子照相感光構件的表面層的方法。日本專利特開No.2009-84556提出了一種將特定的硅氧烷改性聚酯樹脂引入至表面層的方法。

然而，作為研究的結果，本發明人發現，電子照相感光構件表面層中的硅氧烷材料和電荷輸送物質趨于引起重影。更具體地，在預旋轉期間用光照射的輸出圖像的部分趨于具有高濃度(正重影)。

當使用在日本專利特開No.2008-195905、No.2006-328416和No.2009-84556中公開的特定的硅氧烷改性聚碳酸酯樹脂或硅氧烷改性聚酯樹脂時，在電子照相感光構件重復使用期間減少重影圖像的出現方面存在改進空間。

發明內容

本發明提供一種包含可降低初期摩擦力(初期摩擦系數)和抑制重復使用電子照相感光構件期間重影發生的特定的硅氧烷改性樹脂的電子照相感光構件。本發明還提供一種包含所述電子照相感光構件的處理盒和電子照相設備。

本發明提供所述電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備。

本發明涉及一種電子照相感光構件，其包括支承體、在支承體上形成的電荷產生層和在電荷產生層上形成的電荷輸送層。所述電子照相感光構件包括包含以下(α)和(β)以及電荷輸送物質的表面層。

(α)具有下式(A)、(B)、(C)和(D)任意一種表示的結構單元的硅氧烷改性樹脂。

(β)選自由己醇、庚醇、環己醇、芐醇、乙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、二甘醇、二甘醇乙基甲基醚、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯、硝基苯、吡咯烷酮、N-甲基吡咯烷酮、苯甲酸甲酯、苯甲酸乙酯、乙酸苯甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、苯乙酮、水楊酸甲酯、鄰苯二甲酸二甲酯和環丁砜組成的組的至少一種化合物。

在式(A)中，Y¹表示單鍵、亞甲基、乙叉基、丙叉基、苯基乙叉基、環己叉基或氧原子，

X¹表示間亞苯基、對亞苯基或具有經氧原子鍵合的兩個對亞苯基的二價基團，

n表示0或1，和

W¹表示下式(W1)或(W2)表示的單價基團。

在式(W1)和(W2)中，

R¹-R³各自獨立地表示具有1-4個碳原子的烷基，

“a”表示括號內結構的重復數，且“b”和“c”各自獨立地表示括號內結構的重復數，

具有式(A)所示結構單元的硅氧烷改性樹脂中“a”的平均值在10-150的范圍內，和

具有式(A)所示結構單元的硅氧烷改性樹脂中，b+c的平均值在10-150的范圍內。

在式(B)中，

X²表示間亞苯基、對亞苯基或具有經氧原子鍵合的兩個對亞苯基的二價基團，

n表示0或1，

R⁴-R⁶各自獨立地表示氫原子，具有1-4個碳原子的烷基，或苯基，和

V¹表示下式(V1)或(V2)所示的單價基團。

在式(V1)和(V2)中，

R⁷-R⁹各自獨立地表示具有1-4個碳原子的烷基，

“d”表示括號內結構的重復數，并在2-10的范圍內，

“e”表示括號內結構的重復數，以及“f”和“g”各自獨立地表示括號內結構的重復數，和

具有式(B)所示結構單元的硅氧烷改性樹脂中，“e”的平均值在10-150的范圍內，和具有式(B)所示結構單元的硅氧烷改性樹脂中，f+g的平均值在10-150的范圍內。

在式(C)中，