[發(fā)明專利]用于光刻設(shè)備的掩模重力補償裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310563528.5
• 申請日: 2013-11-14
• 公開（公告）號: CN104635429B
• 公開（公告）日: 2017-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龔輝;許琦欣;張洪博;韋婧宇;聶宏飛
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237
• 代理人: 屈蘅

1.?一種用于光刻設(shè)備的掩模重力補償裝置，其特征在于，包括：一掩模，所述掩模通過位于掩模下方分布于兩側(cè)的吸附裝置放置于一掩模臺上，所述掩模的上表面設(shè)置兩個水平位置固定的吸附條，根據(jù)所述掩模運動時的不同位置，調(diào)整所述吸附條的壓力值，以補償所述掩模因自身重量產(chǎn)生的形變；所述吸附條通過調(diào)節(jié)與其連接的流量控制器、比例調(diào)壓閥或磁服閥來控制吸附條的抽速。

2.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條還包括一高度調(diào)節(jié)裝置，用于調(diào)整所述吸附條與所述掩模的垂向距離。

3.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條的與所述掩模靠近的一端被設(shè)置為百葉窗式分流板結(jié)構(gòu)。

4.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條的與所述掩模靠近的一端被設(shè)置為多孔結(jié)構(gòu)。

5.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條通過一流量控制器和風(fēng)機控制所述吸附條的壓力值。

6.?如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述掩模的大小為920mm×800mm，所述吸附條寬度大于等于30mm，長度大于920mm。

7.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條安裝于所述光刻設(shè)備的外部框架上，所述掩模臺位于所述光刻設(shè)備的內(nèi)部框架上。

8.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述吸附條位于所述掩模和所述光刻設(shè)備的照明單元之間。

9.如權(quán)利要求1所述的掩模重力補償裝置，其特征在于，所述兩條吸附條的間距為300mm。