[發(fā)明專利]摩擦布及摩擦裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310561135.0 | 申請日: | 2013-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN103558715A | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李建;李鴻鵬;宋省勳;陳旭 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 趙丹 |
| 地址: | 100176 北京市大*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 摩擦 裝置 | ||
1.一種摩擦布,包括導(dǎo)電紗線,其特征在于,所述導(dǎo)電紗線包括導(dǎo)電纖維,所述導(dǎo)電纖維包括纖維基質(zhì)和分散于所述纖維基質(zhì)內(nèi)部的導(dǎo)電劑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電劑包括導(dǎo)電基質(zhì)和分散粒子,所述導(dǎo)電基質(zhì)用于傳導(dǎo)電荷,所述分散粒子用于使所述導(dǎo)電基質(zhì)分散分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電基質(zhì)包括:碳納米管、鎳納米線、金納米線、銀納米線和石墨烯中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦布,其特征在于,所述分散粒子包括:金屬微粒和/或金屬化合物微粒。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的摩擦布,其特征在于,
所述金屬微粒包括:金、銀、銅、鐵、錫、鋅、鋁、錳和鈦中的至少一種;
所述金屬化合物微粒包括:氧化銀、氧化鈦、氧化錳、氧化鋅、氧化錫、氧化鎳、氧化鐵、氧化鋁、硫化亞銅和硫化銅中的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的摩擦布,其特征在于,所述分散粒子的粒徑≤500nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的摩擦布,其特征在于,所述分散粒子的粒徑≤50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電纖維中,所述導(dǎo)電劑的含量為5~50wt.%。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電纖維中,所述導(dǎo)電劑的含量為7~20wt.%。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電纖維中,所述導(dǎo)電劑的含量為10wt.%。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的摩擦布,其特征在于,所述導(dǎo)電紗線還包括非導(dǎo)電纖維,所述非導(dǎo)電纖維和所述導(dǎo)電纖維分散分布。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的摩擦布,其特征在于,還包括非導(dǎo)電紗線,所述非導(dǎo)電紗線包括非導(dǎo)電纖維;所述導(dǎo)電紗線和所述非導(dǎo)電紗線交錯(cuò)分布。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的摩擦布,其特征在于,所述非導(dǎo)電纖維的靜電序列與所述導(dǎo)電纖維的靜電序列不同。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的摩擦布,其特征在于,所述摩擦布中,所述導(dǎo)電紗線的體積含量為15~100%。
15.一種摩擦裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-14任一項(xiàng)所述的摩擦布。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





