[發明專利]平面雙閃耀光柵的制作方法

有效

• 申請號: 201310561094.5
• 申請日: 2013-11-13
• 公開（公告）號: CN103543485A
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 蘇仰慶;黃元申;黃運柏;丁衛濤;李柏承;張大偉;韓姍;徐邦聯
• 申請（專利權）人: 上海理工大學
• 主分類號: G02B5/18
• 分類號: G02B5/18
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司 31001
• 代理人: 吳寶根;王晶

1.一種平面雙閃耀光柵的制作方法，包括A閃耀區（4）和B閃耀區（5）光柵的刻劃，其特征在于，具體步驟是：

1）A閃耀區（4）光柵的刻劃

a、在清潔除塵后的平面玻璃基底（3）上先后鍍上一層鉻膜和一層鋁膜；

b、刻劃機構的旋轉圓盤（6）的豎直方向的刀橋（8）上安裝兩把刻刀，每把刻刀研磨的刀刃角度均與設計所需的刀刃角度一致；

c、將平面玻璃基底（3）放置在以絲杠為牽引機構的橫向分度工作平臺上，啟動電機進行預刻劃，用電子顯微鏡觀察預刻劃的槽型，根據槽型調節刻刀的刀角傾度和后角高度獲得所需槽型，然后固定好基底，并在其表面滴上硅油；

d、工作平臺帶動光柵基底作進給量為一個光柵常數d的橫向分度運動，刀橋帶動第一刻刀（1）往復作豎直方向上的刻劃運動，如此周而復始，完成A閃耀區（4）光柵的刻劃；

2）B閃耀區（5）光柵的刻劃

a、A閃耀區（4）光柵的刻劃完成后，停止電機，旋轉裝有兩把刻刀的旋轉圓盤（6），把第二刻刀（2）旋轉到第二刻刀（1）的位置，并固定好；

b、啟動電機，工作平臺繼續帶動光柵基底作進給量為一個光柵常數d的橫向分度運動，刀橋（8）帶動第二刻刀（2）往復作豎直方向上的刻劃運動，直到完成B閃耀區（5）光柵的刻劃；

3）完成A閃耀區（4）和B閃耀區（5）光柵的刻劃后取出光柵清洗殘余的硅油，制得雙閃耀光柵。

2.根據權利要求1所描的平面雙閃耀光柵的制作方法，其特征在于，在A閃耀區（4）光柵的刻劃的步驟a中，所述平面玻璃基底（3）尺寸為100mm×50mm，鉻膜厚度為100nm，鋁膜厚度為1um。

3.根據權利要求1所描述的平面雙閃耀光柵的制作方法，其特征在于：上述步驟中在所用的旋轉圓盤（6）上制作兩個在同一直線上的刀架（7），并在沿著刀架（7）中垂線方向的旋轉圓盤（6）邊緣各制作一個旋轉時精密固定刻刀的位置的卡口。

4.根據權利要求1所述的平面雙閃耀光柵的制作方法，其特征在于：上述步驟中，從平面玻璃基底（3）的A閃耀區（4）到B閃耀區（5）的刻劃動作是連續刻劃的。

5.根據權利要求1所述的平面雙閃耀光柵的制作方法，其特征在于：工作平臺的橫向分度運動通過光柵尺對絲桿的精密細分實現，刻劃機構的豎向運動通過伺服電機帶動連接刀橋的傳動皮帶引導刻刀實現刻劃動作。

6.根據權利要求1所述的平面雙閃耀光柵的制作方法，其特征在于：所述安裝在刻劃機構的旋轉圓盤（6）上的刻刀，其垂直距離大于50mm。