[發(fā)明專利]物理氣相沉積在旋轉(zhuǎn)機械葉片表面制備硬阻尼涂層的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310561018.4
• 申請日: 2013-11-13
• 公開（公告）號: CN103590003A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 杜廣煜;巴德純;孫偉;韓清凱
• 申請（專利權(quán)）人: 東北大學(xué)
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/46;C23C14/02
• 代理公司: 沈陽東大專利代理有限公司 21109
• 代理人: 梁焱

1.一種物理氣相沉積在旋轉(zhuǎn)機械葉片表面制備硬阻尼涂層的方法，其特征在于按以下步驟進(jìn)行：

（1）采用旋轉(zhuǎn)機械葉片作為基體，將基體置于去離子水、丙酮或無水乙醇中，采用超聲波對基體表面進(jìn)行清洗；?

（2）將清洗后的基體表面用空氣吹干，然后用氮氣沖洗；

（3）將氮氣沖洗后的基體置于過濾電弧離子鍍膜機的真空室內(nèi)，將真空室抽真空至壓力≤1×10^-3Pa；

（4）向真空室內(nèi)通入氬氣至壓力為0.5~1.5?Pa，對基體施加負(fù)偏壓，負(fù)偏壓幅值為200~400V，利用電極間輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊基體，清洗基體表面，時間為10~30min；

（5）離子轟擊后將真空室抽真空至壓力在5×10^-4~5×10^-3Pa，然后向真空室通入氬氣至壓力為0.5~1.5?Pa，再將基體預(yù)熱至100~150℃；開啟過濾電弧離子鍍膜機，采用金屬鈦作為靶材，向基體表面沉積鈦涂層，控制基體負(fù)偏壓幅值為100~300V，偏壓占空比60~80%，主弧電流25~60A，沉積時間10~30min，在基體表面沉積形成鈦涂層；

（6）采用Ni₆₀Cr_33.7Al_4.5Y_1.8合金作為靶材，對稱開啟6或8個多陰極磁過濾真空電弧，向基體表面的鈦涂層上沉積Ni₆₀Cr_33.7Al_4.5Y_1.8合金涂層；控制負(fù)偏壓幅值為200~400?V，偏壓占空比10~30%，主弧電流25~60A，沉積時間為2.5~3小時，在基體表面制成硬阻尼涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種物理氣相沉積在旋轉(zhuǎn)機械葉片表面制備硬阻尼涂層的方法，其特征在于所述的鈦涂層的厚度為0.5~1.5μm，所述的Ni₆₀Cr_33.7Al_4.5Y_1.8合金涂層的厚度為20~35μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種物理氣相沉積在旋轉(zhuǎn)機械葉片表面制備硬阻尼涂層的方法，其特征在于硬阻尼涂層的膜基結(jié)合力臨界載荷在150~220N。