[發明專利]自動聚焦設備、投影透鏡設備以及圖像投影裝置有效
| 申請號: | 201310560150.3 | 申請日: | 2013-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN103809355A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發明(設計)人: | 土屋聰;山田正道;御沓泰成;難波英男;金井秀雄;石川直行;池田素久 | 申請(專利權)人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | G03B21/53 | 分類號: | G03B21/53;G03B21/00;G02B7/09 |
| 代理公司: | 上海市華誠律師事務所 31210 | 代理人: | 徐申民;肖華 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 自動 聚焦 設備 投影 透鏡 以及 圖像 裝置 | ||
1.一種自動聚焦設備,其特征在于,包括:
光源單元,所述光源發出光;
光投影透鏡單元,所述光投影透鏡單元將所述光源單元發出的光投射到投影目標表面上;
光接收單元,所述光接收單元接收來自所述投影目標表面的漫反射光;
光接收透鏡單元,所述光接收透鏡單元將所述漫反射光引導至所述光接收單元;
計算單元,所述計算單元從所述光接收單元接收的所述漫反射光,計算到所述投影目標表面的焦距;
第一保持單元,所述第一保持單元保持所述光源單元、所述光投影透鏡單元以及所述光接收透鏡單元;
第二保持單元,所述第二保持單元保持所述光接收單元,并且被安裝在所述第一保持單元上;以及
按壓單元,所述按壓單元將所述第二保持單元向所述第一保持單元按壓,其中
所述第二保持單元被配置成能沿著形成在所述第一保持單元上的凹槽部、在所述第一保持單元的表面上移位。
2.如權利要求1所述的自動聚焦設備,其特征在于,
所述按壓單元由抑制向所述光接收單元傳輸電噪聲分量的材料構成。
3.如權利要求1所述的自動聚焦設備,其特征在于,
所述第二保持單元具有被操作部,在所述按壓單元被附接到所述自動聚焦設備的狀態下,當所述第二保持單元被移位時,所述被操作部能夠從所述設備的外面被操作。
4.一種包括自動聚焦設備的投影透鏡設備,其特征在于,
所述自動聚焦設備包括:
光源單元,所述光源發出光;
光投影透鏡單元,所述光投影透鏡單元將所述光源單元發出的光投射到投影目標表面上;
光接收單元,所述光接收單元接收來自所述投影目標表面的漫反射光;
光接收透鏡單元,所述光接收透鏡單元將所述漫反射光引導至所述光接收單元;
計算單元,所述計算單元從所述光接收單元接收的所述漫反射光,計算到所述投影目標表面的焦距;
第一保持單元,所述第一保持單元保持所述光源單元、所述光投影透鏡單元以及所述光接收透鏡單元;
第二保持單元,所述第二保持單元保持所述光接收單元,并且被安裝在所述第一保持單元上;
按壓單元,所述按壓單元彈性地將所述第二保持單元向所述第一保持單元按壓;
焦點改變機構,所述焦點改變機構改變投影透鏡的焦點;以及
電機單元,所述電機單元基于計算出的焦距,驅動所述焦點改變機構,并且
所述第二保持單元被配置成能沿著形成在所述第一保持單元上的凹槽部、在所述第一保持單元的表面上移位。
5.一種包括投影透鏡設備、光源設備以及自動聚焦設備的圖像投影裝置,其特征在于,
所述自動聚焦設備包括:
光源單元,所述光源發出光;
光投影透鏡單元,所述光投影透鏡單元將所述光源單元發出的光投射到投影目標表面上;
光接收單元,所述光接收單元接收來自所述投影目標表面的漫反射光;
光接收透鏡單元,所述光接收透鏡單元將所述漫反射光引導至所述光接收單元;
計算單元,所述計算單元從所述光接收單元接收的所述漫反射光,計算到所述投影目標表面的焦距;
第一保持單元,所述第一保持單元保持所述光源單元、所述光投影透鏡單元以及所述光接收透鏡單元;
第二保持單元,所述第二保持單元保持所述光接收單元,并且被安裝在所述第一保持單元上;
按壓單元,所述按壓單元彈性地將所述第二保持單元向所述第一保持單元按壓;
焦點改變機構,所述焦點改變機構改變投影透鏡的焦點;以及
電機單元,所述電機單元基于計算出的焦距,驅動所述焦點改變機構,并且
所述第二保持單元被配置成能沿著形成在所述第一保持單元上的凹槽部、在所述第一保持單元的表面上移位。
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