[發明專利]觸控板、觸控顯示板與制作觸控板的方法

在審

• 申請號: 201310559449.7
• 申請日: 2013-11-11
• 公開（公告）號: CN104281315A
• 公開（公告）日: 2015-01-14
• 發明（設計）人: 朱冠宇;王愉晴;鄧志容;蘇國彰;王文俊
• 申請（專利權）人: 勝華科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種觸控板，其特征在于，包括：

一玻璃基底，具有相對應的一錫面與一相對面；

一阻隔層，設置在所述玻璃基底的所述相對面；

多個離子，分布在所述玻璃基底以及所述阻隔層內，且所述阻隔層內的所述離子是由遠離所述玻璃基底的一側向所述玻璃基底的方向遞減分布，而所述玻璃基底于所述相對面朝所述玻璃基底內部具有所述離子，且所述玻璃基底于所述錫面朝所述玻璃基底內部具有所述離子；以及

一觸控組件，設置在所述玻璃基底的所述錫面上。

2.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述離子至少包括鉀離子或鈉離子其中之一。

3.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述阻隔層與所述玻璃基底的所述相對面接觸，且所述離子的數量或濃度分布由所述錫面與所述相對面分別朝向所述玻璃基底的內部的方向遞減。

4.如權利要求3所述的觸控板，其特征在于，分布在所述錫面的所述離子的數量或濃度低于分布在所述相對面的所述離子的數量或濃度，且所述玻璃基底朝所述觸控組件的方向彎曲。

5.如權利要求3所述的觸控板，其特征在于，分布在所述錫面的所述離子的數量或濃度高于或等于分布在所述相對面的所述離子的數量或濃度，且所述玻璃基底朝所述相對面的方向彎曲。

6.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，還包括一緩沖層，設置在所述觸控組件與所述玻璃基底的所述錫面之間。

7.如權利要求6所述的觸控板，其特征在于，所述緩沖層內具有所述離子，且所述緩沖層內的所述離子的數量或濃度低于所述阻隔層內的所述離子的數量或濃度。

8.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，還包括一圖案化裝飾層，設置在所述玻璃基底的所述錫面。

9.如權利要求8所述的觸控板，其特征在于，所述圖案化裝飾層具有一開口，且所述觸控組件的至少部分延伸至所述圖案化裝飾層上。

10.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，還包括一保護層，設置在所述觸控組件上。

11.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述阻隔層的厚度實質上介于1納米至100納米之間。

12.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述阻隔層的厚度實質上介于1納米至30納米之間。

13.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述玻璃基底朝所述觸控組件方向彎曲，且所述玻璃基底的中央部分與邊緣部分的高度差實質上小于或等于0.7毫米。

14.如權利要求1所述的觸控板，其特征在于，所述玻璃基底相對于所述錫面與所述相對面的位置的離子的數量或濃度實質上相同。

15.一種觸控顯示板，其特征在于，包括：

一顯示板，具有一顯示面；以及

一觸控板，設置在所述顯示板的所述顯示面上，所述觸控板包括：

一玻璃基底，具有相對應的一錫面與一相對面；

一阻隔層，設置在所述玻璃基底的所述相對面；

多個離子，位于所述玻璃基底以及所述阻隔層內，且所述阻隔層內的所述離子是由遠離所述玻璃基底的一側向所述玻璃基底的方向遞減分布，而所述玻璃基底于所述相對面朝所述玻璃基底內部具有所述離子，且所述玻璃基底于所述錫面朝所述玻璃基底內部具有所述離子；以及

一觸控組件，設置在所述玻璃基底的所述錫面上。

16.如權利要求15所述的觸控顯示板，其特征在于，所述觸控組件是面對所述顯示板的所述顯示面。

17.如權利要求16所述的觸控顯示板，其特征在于，所述玻璃基底朝所述觸控組件方向彎曲，且所述玻璃基底的中央部分與邊緣部分的高度差實質上小于或等于0.7毫米。

18.一種制作觸控板的方法，其特征在于，包括：

提供一玻璃基底，所述玻璃基底具有相對應的一錫面與一相對面；

于所述玻璃基底的所述相對面形成一阻隔層；

進行一強化工藝，將形成有所述阻隔層的所述玻璃基底浸入一強化溶液，其中所述強化溶液包括多個離子，所述阻隔層抑制進入所述玻璃基底的所述相對面的所述離子的數量，以供所述玻璃基底于所述相對面朝所述玻璃基底內部具有所述離子，且所述玻璃基底于所述錫面朝所述玻璃基底內部具有所述離子，而所述阻隔層內的所述離子是由遠離所述相對面的一側向所述相對面的方向遞減分布；以及

于所述強化工藝之后，于所述玻璃基底的所述錫面形成一觸控組件。