[發(fā)明專利]一種改善選擇性發(fā)射極太陽能電池片噴蠟斷線的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310558755.9
• 申請日: 2013-11-12
• 公開（公告）號: CN104638054A
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周艷霞
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江鴻禧能源股份有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及選擇性發(fā)射極太陽能電池片的制造技術(shù)，具體地涉及一種改善選擇性發(fā)射極太陽能電池片噴蠟斷線的方法。

背景技術(shù)

選擇性發(fā)射極（SE）太陽能電池即在金屬柵線（電極）與硅片接觸部位進行重摻雜，在電極之間位置進行輕摻雜。該工藝既可以保證金屬柵線區(qū)有比較好的接觸電阻，在非柵線區(qū)的輕摻雜又能改善擴散后的死層問題。目前大多數(shù)公司采用的SE工藝流程如下：清洗制絨，低方阻擴散，噴涂掩膜，背刻蝕和正面刻蝕，PECVD鍍膜，印刷燒結(jié)。該工藝流程可以使金屬柵線區(qū)保證高濃度、較深的PN結(jié)，非柵線區(qū)由于正面刻蝕的原因，將硅片去掉約10nm左右的一層，最終得到低濃度、較淺的PN結(jié)。該工序經(jīng)常發(fā)生由于噴頭堵塞導(dǎo)致的圖形斷線問題，且生存過程中不易發(fā)現(xiàn)。在實際生產(chǎn)中噴涂的掩膜為石蠟，該斷線問題使得掩膜缺失，使本該被掩膜保護的區(qū)域被刻蝕掉，導(dǎo)致該區(qū)域形成低濃度、較淺的PN結(jié)，印刷金屬柵線后影響接觸電阻，使得電池片的串聯(lián)電阻上升從而導(dǎo)致電池片的效率降低。噴蠟過程中小的斷線很難被及時發(fā)現(xiàn)，導(dǎo)致大量低效率電池片的產(chǎn)生。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種改善選擇性發(fā)射極太陽能電池片噴蠟斷線的方法，降低電池片的低效比例。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是提供一種改善選擇性發(fā)射極太陽能電池片噴蠟斷線的方法，具體步驟如下：

（1）???在噴蠟機臺的正上方安裝兩個紫光燈，分別位于機臺的左右或者前后兩側(cè)，同時要保證兩個紫光燈打在機臺上的光區(qū)有交叉區(qū)域，紫光燈需安裝在載片臺上1～1.2m高的位置；

（2）???在制備掩膜的過程中，打開紫光燈，按照噴蠟圖形采用帶有熒光成分的石蠟進行噴蠟制備掩膜，在紫光燈下發(fā)出熒光，與非掩膜區(qū)域會形成非常鮮明的對比，如果此時掩膜圖形存在斷線問題將會被及時發(fā)現(xiàn)。

本發(fā)明的有益效果是在選擇性發(fā)射極太陽能電池片制備掩膜的過程中極易發(fā)現(xiàn)斷線問題，使電池片中低效片的比例降低8%。

附圖說明

?附圖1?本發(fā)明提供的技術(shù)方案實施時的示意圖。