[發明專利]鍍膜玻璃用硅靶水冷卻系統

無效

• 申請號: 201310558476.2
• 申請日: 2013-11-12
• 公開（公告）號: CN103601372A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 曹俊
• 申請（專利權）人: 無錫康力電子有限公司
• 主分類號: C03C17/00
• 分類號: C03C17/00
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 徐冬濤;苗建

技術領域

本發明涉及一種鍍膜玻璃生產時的硅靶水冷卻系統。

背景技術

現有鍍膜玻璃在生產過程的靶座水冷系統結構是磁鐵處于冷卻水槽內部，由于磁鐵浸泡在水中，容易腐蝕，縮短了磁鐵的使用壽命，所以需要經常更換，由于靶座水冷系統中使用的磁鐵價格較高，更換磁鐵大大增加了運行成本，而且磁鐵在受到腐蝕后其磁場的損鐵也會影響產品的穩定性。

發明內容

本發明的目的就是針對上述現有技術的不足，提供一種結構簡單實用，避免磁鐵被腐蝕的鍍膜玻璃用硅靶水冷卻系統。

本發明采用的技術方案如下：

???一種鍍膜玻璃用硅靶水冷卻系統，其特征是它包括有靶水冷座，所述靶水冷座中設有水冷隔離板，水冷隔離板的上方形成冷卻水槽，水冷隔離板的下方設有磁鐵，在所述冷卻水槽的上方設有銅背板，銅板板的上方設有硅靶。

根據權利要求1所述的鍍膜玻璃用硅靶水冷卻系統，其特征是所述水冷隔離板采用SUS316不銹鋼材料制成。

本發明的有益效果有：

結構簡單實用，設計合理，改進后的水冷系統將冷卻水與磁鐵隔離，能有效提高產品的穩定性，節約了生產成本。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步地說明：

????如附圖1所示，本發明它包括有靶水冷座1，所述靶水冷座1中設有水冷隔離板2，水冷隔離板2的上方形成冷卻水槽，水冷隔離板2的下方設有磁鐵3，在所述冷卻水槽的上方設有銅背板4，銅板板3的上方設有硅靶5。所述水冷隔離板2材料要求有良好的磁力線穿透性，優選采用SUS316不銹鋼材料制成，其上方形成的冷卻水槽要求度度小于20mm。

本發明涉及的其它未說明部分與現有技術相同。