[發(fā)明專利]一種蝕刻方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310557770.1
• 申請日: 2011-03-04
• 公開（公告）號: CN103614726A
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 侯延輝;王維亮
• 申請（專利權(quán)）人: 侯延輝;王維亮
• 主分類號: C23F1/18
• 分類號: C23F1/18
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 馮劍明

1.一種蝕刻方法，其特征在于包括以下步驟：a）包含催化劑的酸性蝕刻液母液對基材連續(xù)蝕刻；b）所述催化劑對酸性蝕刻液母液中的一價和二價銅離子有絡(luò)合作用或能生成穩(wěn)定配合物，并且調(diào)節(jié)反應(yīng)A向生成二價銅離子的方向移動；c）向酸性蝕刻液母液中添加子液，以維持酸性蝕刻液中銅離子和催化劑的含量，所述銅離子為一價亞銅離子和二價銅離子；

反應(yīng)A：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述母液主要由氯化銅溶液、氯離子和氫離子組成，氯化銅以銅離子含量計算為80～180g/L，氫離子含量為0.3～5.0N，氯離子含量為160～330g/L，所述化合物的含量為占母液質(zhì)量的0.1%-15%；母液為初始工作蝕刻液。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述子液主要由氯離子和氫離子組成，其中，氫離子含量為0.3～6.0N，氯離子含量為160～330g/L，所述化合物的含量為占子液質(zhì)量的0.1%-15%；子液用于添加至母液中以維持蝕刻液中銅離子含量不變。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述蝕刻方法的過程中不產(chǎn)生氯氣。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述酸性蝕刻液中始終存在氯化亞銅，并且所述氯化亞銅在基材表面形成抑制膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻方法，其特征在于，所述化合物選取下列化合物中一種化合物或多種化合物復(fù)配：含氨基、和/或酰基化氨基、和/或羥基、和/或羰基、和/或羥基酸基團、和/或硫基、和/或磺酸根的有機或無機化合物，或除氯離子外的鹵族元素的酸及鹽，或雜環(huán)化合物及雜環(huán)化合物的衍生物。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻方法，其特征在于，所述化合物選取氨、乙二胺、EDTA、三乙醇胺、乙酰胺、DMF、胍、三乙烯四胺、多乙烯多胺中的一種化合物或多種化合物復(fù)配。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻方法，其特征在于，所述化合物選取氨基丙酸、氨基乙酸、半胱氨酸、酒石酸、氨三乙酸、檸檬酸、甲磺酸、氨基磺酸、酚磺酸中的一種化合物或多種化合物復(fù)配。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的蝕刻方法，其特征在于，所述化合物選取屬于雜環(huán)化合物及雜環(huán)化合物的衍生物化合物的吡啶、吡啶的衍生物、喹啉、喹啉衍生物、嘧啶、嘧啶衍生物中的一種化合物或多種化合物復(fù)配。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蝕刻方法，其特征在于，所述化合物選取BTA、二硫基苯并噻唑、苯并咪唑、聯(lián)吡啶、8-羥基喹啉中的一種化合物或多種化合物復(fù)配。