[發明專利]一種UV固化的無支撐體多孔性分離膜陰離子型表面修飾的方法

有效

• 申請號: 201310556617.7
• 申請日: 2013-11-08
• 公開（公告）號: CN103599704A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 孫余憑;張春芳;周小蘭
• 申請（專利權）人: 江南大學
• 主分類號: B01D67/00
• 分類號: B01D67/00;B01D71/68;B01D71/34;B01D71/30;B01D71/42;B01J19/12
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1.一種UV固化的無支撐體多孔性分離膜陰離子型表面修飾的方法，其特征在于，包括以下工藝步驟：

(1)將配置好的高分子聚合物鑄膜液在承載基膜上刮膜，經凝固浴成膜及水洗工序，將多孔性高分子膜與承載基膜剝離，形成無支撐體多孔性高分子分離膜；

(2)經水洗除去所含溶劑、非溶劑及添加劑后，浸入由光引發劑、光敏性陰離子組分、助劑及溶劑組成的陰離子型表面修飾溶液；將經過陰離子型表面修飾溶液浸泡的無支撐體多孔性高分子分離膜置于紫外燈下輻照，使光敏性陰離子組分固化形成交聯性陰離子型表面修飾層；

(3)UV固化形成交聯性陰離子型表面修飾層的無支撐體多孔性高分子分離膜經水清洗，洗去殘留的有機物；經熱風干燥，得到陰離子型表面修飾型無支撐體高分子多孔性分離膜。

2.根據權利要求1所述一種UV固化的無支撐體多孔性分離膜陰離子型表面修飾的方法，其特征是，所述無支撐體多孔性高分子分離膜其高分子聚合物為聚醚砜、聚砜、聚偏氟乙烯、聚氯乙烯、聚丙烯腈及氯化聚氯乙烯。

所述承載基膜為聚乙烯、聚丙烯、聚酯薄膜，薄膜厚度為0.1mm～2mm。

3.根據權利要求1所述一種UV固化的無支撐體多孔性分離膜陰離子型表面修飾的方法，其特征是，所述陰離子型表面修飾溶液組成為，按重量百分比計：0.1份～5份的光引發劑，0.5份～50份的光敏性陰離子組分，1份～60份的助劑，2份～98份的溶劑。

所述光引發劑為2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羥基環己基苯基甲酮、2-甲基-2-(4-嗎啉基)-1-[4-(甲硫基)苯基]-1-丙酮、2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2，4，6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、2-二甲氨基-2-芐基-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]-1-丙酮、苯甲酰甲酸甲酯、2-羥基-4′-(2-羥乙氧基)-2-甲基苯丙酮中的一種或幾種；

所述光敏性陰離子組分為丙烯酸、甲基丙烯酸、N，N-亞甲基二丙烯酰胺中的一種或幾種；

所述助劑為甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇、乙二醇二甲醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單叔丁醚、乙二醇單甲醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、三乙二醇單甲醚、二乙二醇二乙醚、三乙二醇二甲醚、三乙二醇單乙醚、丙酮、一乙醇胺、二乙醇胺及三乙醇胺中的一種或幾種；

所述溶劑為水、甲醇、乙醇及丙醇中的一種或幾種。

4.根據權利要求1所述一種UV固化的無支撐體多孔性分離膜陰離子型表面修飾的方法，其特征是，所述UV固化時間為0.2～300秒。

所述水清洗為清水或去離子水中的一種或幾種。

所述熱風干燥為：熱風溫度30～140℃，熱風壓力-0.098～0.5MPa(表壓)，干燥時間2秒～5小時。