[發(fā)明專(zhuān)利]刻蝕劑組合物、陣列基板以及制造陣列基板的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310552933.7
• 申請(qǐng)日: 2013-11-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103806000A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔容碩;權(quán)五柄;金童基
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 東友FINE-CHEM股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23F1/30
• 分類(lèi)號(hào): C23F1/30;H01L21/77;H01L21/28
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 張穎玲;胡春光

1.一種制造用于液晶顯示器的陣列基板的方法，所述方法包括：

a）在基板上形成柵極布線；

b）在具有所述柵極布線的所述基板上形成柵極絕緣層；

c）在所述柵極絕緣層上形成半導(dǎo)體層；

d）在所述半導(dǎo)體層上形成源極和漏極；以及

e）形成與所述漏極連接的像素電極，

其中，在a）中的形成所述柵極布線包括在所述基板上形成Cu-基金屬膜以及利用刻蝕劑組合物刻蝕所述Cu-基金屬膜，

在d）中的形成所述源極和所述漏極包括在所述半導(dǎo)體層上形成Cu-基金屬膜以及利用所述刻蝕劑組合物刻蝕所述Cu-基金屬膜，以及

所述刻蝕劑組合物為用于Cu-基金屬膜的刻蝕劑組合物，基于所述組合物的總重量，所述刻蝕劑組合物包括A）H₂O₂、B）pH調(diào)節(jié)劑以及C）水，并且所述刻蝕劑組合物的pH為1.6～3。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，用于液晶顯示器的所述陣列基板為薄膜晶體管陣列基板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述組合物的pH為1.6～2.4。

4.一種用于Cu-基金屬膜的刻蝕劑組合物，包括：

A）H₂O₂；

B）pH調(diào)節(jié)劑；以及

C）水，

其中，所述組合物具有1.6～3的pH。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕劑組合物，其中，所述組合物的pH為1.6～2.4。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕劑組合物，其中，B）所述pH調(diào)節(jié)劑為有機(jī)酸、無(wú)機(jī)酸、鹽、唑類(lèi)化合物或水溶性環(huán)胺化合物。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕劑組合物，其中，B）所述pH調(diào)節(jié)劑為1-羥基亞乙基-1,1-二磷酸、乙醇酸、磷酸、磷酸鹽、氨基四唑或氟化物。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的刻蝕劑組合物，進(jìn)一步包括螯合劑或抗腐蝕劑。

9.一種刻蝕Cu-基金屬膜的方法，包括：

I）在基板上形成Cu-基金屬膜；

II）在所述Cu-基金屬膜上選擇性地留下光敏材料；

III）利用刻蝕劑組合物刻蝕所述Cu-基金屬膜，

其中，所述刻蝕劑組合物為用于Cu-基金屬膜的刻蝕劑組合物，所述刻蝕劑組合物包括A）H₂O₂、B）pH調(diào)節(jié)劑以及C）水，并且所述刻蝕劑組合物的pH為1.6～3。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中，所述組合物的pH為1.6～2.4。

11.一種用于液晶顯示器的陣列基板，包括利用權(quán)利要求4所述的刻蝕劑組合物刻蝕的源極和漏極。