[發明專利]一種用于冶煉低鈦磷鐵的高爐在審
| 申請號: | 201310552799.0 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN104611486A | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發明(設計)人: | 徐廣哲 | 申請(專利權)人: | 徐廣哲 |
| 主分類號: | C21B7/00 | 分類號: | C21B7/00 |
| 代理公司: | 無 | 代理人: | 無 |
| 地址: | 710000 陜西省西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 冶煉 低鈦磷鐵 高爐 | ||
技術領域
本發明涉及一種用于冶煉低鈦磷鐵的高爐。?
背景技術
目前市場投入使用的冶煉高爐,大體可以分為回轉窯,旋轉爐,球團豎爐,軌道窯等。以上設備在生產低鈦磷鐵的實踐中都各有缺陷和不足,具體為:(1)回轉窯投資大,技術難度高,占地多,僅適合大型、特大型礦山投入使用;(2)旋轉爐過火不均勻,粉末易粘結在圓盤椎體出料口,維護維修占用時間多;(3)球團豎爐爐體矮且粗大,布料后下行時易形成v型導致中間溫度高,四周溫度低,產成品質量參差不齊;(4)軌道窯產量低,成本高。?
發明內容
本發明就是為了解決現有冶煉高爐所存在的缺陷,提供了一種投資少,占地省,產量高,產品品質好的專門用于冶煉低鈦磷鐵的高爐。?
為實現上述目的,本發明采用的技術方案是:一種用于冶煉低鈦磷鐵的高爐,包括爐體上部的焙燒爐、下部的冷卻倉以及底部的密封出料機,所述焙燒爐的頂端設有進料口,中部設有第一進氣口以及與第一進氣口相對設置在爐體另一側偏下處的第二進氣口,所述焙燒爐與冷卻倉的結合部偏下處預留有第一進水口和第二進水口,所述冷卻倉下部側壁上預留有第一出水口和第二出水口,所述冷卻倉底端?
設有圓盤椎體出料口,所述密封出料機與圓盤椎體出料口密封連接;?
所述焙燒爐的爐壁為3層結構,由外至內依次為鋼板層、珍珠巖隔熱層、耐火磚過火層;?
所述冷卻倉的倉壁為3層結構,由外至內依次為外部鋼板層、中空層、內部鋼板層,所述中空層中為循環水。?
進一步地,所述焙燒爐中的耐火磚過火層厚度≥300mm,珍珠巖隔熱層≥150mm。?
進一步地,所述用于冶煉低鈦磷鐵的高爐爐體直徑與高度比為1:4。?
所述用于冶煉低鈦磷鐵的高爐以直徑40cm的鋼管框架式鋼結構整體支撐固定。?
相對于現有技術,本發明裝置的優勢在于:?
(1)爐體瘦身增高后使熱能得到充分利用,優質、高效、節能、環保得以集中體現;?
(2)爐體瘦身拔高后使得爐料下行成v型狀缺陷得以克服,確保了布料和礦料向下運行時礦料的均勻;?
(3)投資少,占地省,產量高,產品品質好。?
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖;?
圖中符號說明:?
1.焙燒爐,2.冷卻倉,3.密封出料機,4.進料口,5.第一進氣口,6.第二進氣口,7.第一進水口,8.第二進水口,9.第一出水口,10.第二出水口,11.圓盤椎體出料口?
具體實施方式
如圖1所示,本發明的用于冶煉低鈦磷鐵的高爐,包括爐體上部的焙燒爐1、下部的冷卻倉2以及底部的密封出料機3,所述焙燒爐1的頂端設有進料口4,焙燒爐1的中部設有第一進氣口5以及與第一進氣口5相對設置在爐體另一側偏下處的第二進氣口6,所述焙燒爐1與冷卻倉2的結合部偏下處預留有第一進水口7和第二進水口8,所述冷卻倉2下部側壁上預留有第一出水口9和第二出水口10,所述冷卻倉2底端設有圓盤椎體出料口11,所述密封出料機3與圓盤椎體出料口11密封連接;?
所述用于冶煉低鈦磷鐵的高爐爐體總高度為18m,直徑為1.8m。?
所述焙燒爐1高度為11m,其爐壁為3層結構,由外至內依次為鋼板層、珍珠巖隔熱層、耐火磚過火層;所述冷卻倉2高度為4m,其倉壁為3層結構,由外至內依次為外部鋼板層、中空層、內部鋼板層,所述中空層中為循環水。?
所述爐體以5mm以上厚度鋼板卷圓、焊接形成爐體外殼,內殼由耐火磚堆砌成300mm厚度,內、外殼之間夾層填充150mm珍珠巖粉體達到隔熱目的。所述冷卻倉2的內部鋼板層厚度為10mm。?
所述用于冶煉低鈦磷鐵的高爐以直徑40cm的鋼管框架式鋼結構?
整體支撐固定。?
下面對本裝置的工作過程加以描述:?
原料礦石自頂部進料口4進入,通過焙燒爐1中部的第一進氣口5以及第二進氣口6加入煤氣;在爐內經過預熱、加熱,在1550℃高溫熔融并發生化學還原反應,完成分解、還原等一系列物理、化學反應,完成還原過程。?
所述煤氣由外接的煤氣發生爐產生,并通過焙燒爐1中部的第一進氣口5以及第二進氣口6加入,機動性好,不受地點與氣源限制。?
完成焙燒的礦石經焙燒爐1低端勻速下行并進入冷卻倉2內,經冷卻倉完成冷卻、降溫過程。最后通過與圓盤椎體出料口11密封連接的密封出料機完成成品出料。?
以上所述僅為本發明的優選實施例,并不用于限制本發明,對于本領域的技術人員來說,本發明可以有各種更改和變化。凡是在本發明的權利要求限定范圍內,所做的任何修改、等同替換、改進等,均應在本發明的保護范圍之內。?
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