[發明專利]一種納米壓印工藝的優化方法在審
| 申請號： | 201310552766.6 | 申請日： | 2013-11-08 |
| 公開（公告）號： | CN103577582A | 公開（公告）日： | 2014-02-12 |
| 發明（設計）人： | 王晶 | 申請（專利權）人： | 無錫英普林納米科技有限公司 |
| 主分類號： | G06F17/30 | 分類號： | G06F17/30;G06Q10/04;G06Q50/04 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 成立珍 |
| 地址： | 214192 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 納米 壓印 工藝 優化 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種納米壓印工藝的優化方法，其特征在于，包括如下步驟：
（1）選取影響納米壓印工藝的因素，每個因素設置相應水平；
（2）在設定的因素條件下進行納米壓印實驗，記錄實驗結果；
（3）利用多因素方差分析方法對實驗結果進行分析；
（4）根據分析結果選擇最佳水平組合，確定最佳的納米壓印條件。
2.根據權利要求1所述的納米壓印工藝的優化方法，其特征在于：所述步驟（2）的納米壓印實驗包括采用熱壓印或者紫外壓印進行納米壓印。
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