[發明專利]一種TTR混合基用BOPET有效
| 申請號: | 201310550219.4 | 申請日: | 2013-11-08 |
| 公開(公告)號: | CN103554854A | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發明(設計)人: | 李東升;韓冰冰;李加坤;李娟 | 申請(專利權)人: | 河南卓立膜材料股份有限公司 |
| 主分類號: | C08L67/02 | 分類號: | C08L67/02;C08K3/36 |
| 代理公司: | 鄭州聯科專利事務所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 田小伍 |
| 地址: | 454000 河南*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ttr 混合 bopet | ||
技術領域
本發明屬于BOPET(雙向拉伸聚酯薄膜)領域,具體涉及一種TTR(熱轉印色帶)混合基用BOPET。
背景技術
目前,在TTR混合基高速涂布中使用的BOPET一般為電容器專用或為生產電容器專用BOPET的4.5微米過渡產品,沒有TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET。電容器用BOPET的4.5微米過渡產品從原料到工藝,全是針對電容器膜的耐擊穿、絕緣等性能,無法滿足TTR混合基高速涂布所需要的熱穩定性、涂布后低噪音等性能要求。
發明內容
本發明目的在于提供一種TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET。
本發明的技術方案如下:
一種TTR混合基用BOPET,厚度為4.3微米,由基料和納米硅母料制備而成;
所述基料為PET,即聚對苯二甲酸乙二醇酯;
所述納米硅母料為聚對苯二甲酸乙二醇酯與納米SiO2的混合物,其中納米SiO2的粒徑為100nm~500nm,含量為3000~8000ppm。
所述TTR混合基用BOPET,以質量百分比計,基料含量為50%~65%。
所述TTR混合基用BOPET,以質量百分比計,基料含量為55%。
需要說明的是,為更好的制備4.3微米的BOPET,制備本發明TTR混合基高速涂布專用4.3微米的BOPET的生產線上的相關生產設備由奧地利安德里茨公司所生產,所引進的生產設備在MDO(縱向拉伸)、TDO(橫向拉伸)區域相較于國內設備能夠更好的滿足生產所需。
本發明相較于現有技術中使用的4.5微米過渡產品,通過納米硅添加劑的使用,降低了薄膜的粗糙度,使TTR打印噪音大幅降低,可低于89分貝;所制備的BOPET產品的熱穩定性、剝離性、潔凈度及對涂布溶劑的表面適應性等各項性能更適于TTR混合基高速涂布專用。
具體實施方式
下面結合實施例對本發明做進一步的介紹說明。
實施例1
按基料與納米硅母料=5:5的質量比進行配制,所述基料為聚對苯二甲酸乙二醇酯;所述納米硅母料為聚對苯二甲酸乙二醇酯與納米SiO2的混合物,其中納米SiO2的粒徑為100nm~500nm,含量為5000ppm。
將配制好的原料經混合、干燥后,進入擠出機在280℃溫度下進行原料熔融,首先將熔融后原料經過5μm高精度過濾器過濾后,在T型模頭擠出并在急冷輥冷卻,后經過MDO?55℃~76℃的預熱后,進行3.65倍縱拉和TDO的4.1倍橫拉,在TDO橫拉末段進行冷卻結晶處理,然后再經過切邊、收卷等工序收成半成品,最后經分切、包裝后,成為TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET成品。
對本實施例制備的BOPET成品進行分切,成品優等級品率可達89%,涂布A級品率可達83%。
對本實施例制備的TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET成品的主要物化指標測定如下表所示:
實施例2
制備方法同實施例1,僅調整基料與納米硅母料按5.5:4.5的質量比進行配制,所述基料為聚對苯二甲酸乙二醇酯;所述納米硅母料為聚對苯二甲酸乙二醇酯與納米SiO2的混合物,其中納米SiO2的粒徑為100nm~500nm,含量為5000ppm。
對本實施例制備的BOPET成品進行分切,成品優等級品率可達94%,涂布A級品率可達88%。
對本實施例制備的TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET成品的主要物化指標測定如下表所示:
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實施例3
制備方法同實施例1,僅調整基料與納米硅母料按6:4的質量比進行配制,所述基料為聚對苯二甲酸乙二醇酯;所述納米硅母料為聚對苯二甲酸乙二醇酯與納米SiO2的混合物,其中納米SiO2的粒徑為100nm~500nm,含量為5000ppm。
對本實施例制備的BOPET成品進行分切,成品優等級品率可達88%,涂布A級品率可達82%。
對本實施例制備的TTR混合基高速涂布專用4.3微米?BOPET成品的主要物化指標測定如下表所示:
實施例4
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