[發明專利]一種大面積圖案化藍寶石襯底的制備方法無效
| 申請號： | 201310549792.3 | 申請日： | 2013-11-07 |
| 公開（公告）號： | CN103579421A | 公開（公告）日： | 2014-02-12 |
| 發明（設計）人： | 倪蒙陽;郭旭;袁長勝 | 申請（專利權）人： | 無錫英普林納米科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L33/00 | 分類號： | H01L33/00;G03F7/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人： | 李媛媛 |
| 地址： | 214192 *** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 大面積 圖案 藍寶石 襯底 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種大面積圖案化藍寶石襯底的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：
(1)制備納米壓印用的金屬Ni模板
a)在(100)硅片上用EBL制備納米孔陣硅模板A；
b)利用電子束蒸鍍設備在硅模板A上沉積10nm厚的金屬Ni；
c)將步驟b)制備的硅模板A在Ni的電鍍液中電鍍金屬Ni層至所需厚度，然后將電鍍的金屬Ni層與硅模板A分離，得到金屬Ni點陣模板B，其周期與硅模板A相同，但是其結構與硅模板A相反；
(2)利用(1)中制備的金屬Ni模板進行熱壓印以及電子束蒸鍍、舉離工藝
a)在藍寶石襯底上旋涂特定厚度的熱壓印膠，利用(1)中得到的金屬Ni點陣模板B進行熱壓??；
b)利用熱壓印得到的熱壓膠結構，在O2等離子體中刻蝕至藍寶石襯底露出；
c)利用電子束蒸鍍在刻蝕完的藍寶石襯底表面沉積一層金屬，再舉離得到表面具有金屬點陣掩膜結構的藍寶石襯底；
(3)利用(2)中得到的金屬點陣掩膜層進行藍寶石襯底的刻蝕
將(2)中得到的藍寶石襯底在ICP中用Cl2和BCl3進行刻蝕，將殘余金屬點陣掩膜層洗去，得到納米圖案化的藍寶石襯底。
2.根據權利要求1所述的一種大面積圖案化藍寶石襯底的制備方法，其特征在于，所述（1）步驟c)中，電鍍金屬Ni層的厚度為100-300微米。
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