[發(fā)明專利]一種在處理機(jī)臺(tái)上生成用于定位晶圓的制程的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310548035.4
• 申請(qǐng)日: 2013-11-06
• 公開（公告）號(hào): CN104637781B
• 公開（公告）日: 2018-08-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周堅(jiān)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 睿勵(lì)科學(xué)儀器（上海）有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/02
• 分類號(hào): H01L21/02;G06F17/50
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 鄭立柱

1.一種在處理機(jī)臺(tái)上生成用于定位晶圓的制程的方法，包括如下步驟：

Ⅰ.導(dǎo)入待測(cè)晶圓；

Ⅱ.按照如下步驟分別設(shè)定至少兩個(gè)定位單元，其中

i 通過圖像識(shí)別設(shè)備在所述晶圓上選定特征性圖形區(qū)域；

ii在所述特征性圖形區(qū)域中確定至少兩個(gè)特征點(diǎn)；

iii記錄每個(gè)特征點(diǎn)的坐標(biāo)；

Ⅲ.把所述定位單元的數(shù)據(jù)保存至所述制程中，所述定位單元的數(shù)據(jù)包括所述特征性圖形區(qū)域和每個(gè)特征點(diǎn)的坐標(biāo)；

其中，制程中每一個(gè)定位單元所選定的圖形區(qū)域不一樣，

其中，在步驟Ⅲ中，所述制程還包括定位單元排序組，所述定位單元按預(yù)定的排列規(guī)則被保存至所述定位單元排序組中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，至少一個(gè)所述特征點(diǎn)靠近所述晶圓的中心，至少一個(gè)所述特征點(diǎn)靠近所述晶圓的邊緣。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在確定所述特征點(diǎn)時(shí)，選擇點(diǎn)間距離遠(yuǎn)的點(diǎn)為特征點(diǎn)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，當(dāng)設(shè)定制程中的第一個(gè)定位單元時(shí)，所述特征性圖形區(qū)域在靠近晶圓中心區(qū)域附近選取。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在步驟i中，設(shè)定一個(gè)特征性閾值，當(dāng)圖形區(qū)域的特征性值大于所述特征性閾值時(shí)，選定該圖形區(qū)域?yàn)樘卣餍詧D形區(qū)域，其中，該特征性值表示圖形的特征被識(shí)別的難易程度。

6.一種用處理機(jī)臺(tái)在制程中增加定位單元的方法，所述制程用于定位晶圓，包括如下步驟：

A.導(dǎo)入待測(cè)晶圓；

B.導(dǎo)出制程中現(xiàn)有定位單元中的現(xiàn)有數(shù)據(jù)，所述現(xiàn)有數(shù)據(jù)包括現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域和現(xiàn)有特征點(diǎn)的現(xiàn)有坐標(biāo)；

C.根據(jù)所述現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域數(shù)據(jù)，通過圖像識(shí)別設(shè)備在晶圓上自動(dòng)搜尋以找出與所述現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域相匹配的圖形區(qū)域；

D.根據(jù)現(xiàn)有數(shù)據(jù)中提供的現(xiàn)有特征點(diǎn)，在當(dāng)前找出的圖形區(qū)域中搜尋該現(xiàn)有特征點(diǎn)，并確定所述現(xiàn)有特征點(diǎn)的當(dāng)前坐標(biāo)；計(jì)算所述當(dāng)前坐標(biāo)相對(duì)于所述現(xiàn)有坐標(biāo)在X軸和Y軸上的偏移量和偏轉(zhuǎn)角度；根據(jù)計(jì)算得出的所述X軸和Y軸上的偏移量和偏轉(zhuǎn)角度，得出當(dāng)前坐標(biāo)與現(xiàn)有坐標(biāo)的換算公式；

E.添加至少一個(gè)新增定位單元；其中

e1.通過圖像識(shí)別設(shè)備在所述晶圓上選定新增特征性圖形區(qū)域，其中，該新增特征性圖形區(qū)域與現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域不一樣；

e2.在所述新增特征性圖形區(qū)域中確定至少兩個(gè)特征點(diǎn)；

e3.記錄所述新增的特征點(diǎn)的坐標(biāo)；

F.把所述新增定位單元的數(shù)據(jù)保存至所述制程中，所述新增的定位單元的數(shù)據(jù)包括新增特征性圖形區(qū)域和新增的特征點(diǎn)的坐標(biāo)；

其中，步驟C中還包括如下步驟：

c1.設(shè)定圖形相似性閾值，通過圖形識(shí)別設(shè)備判斷在晶圓中所搜尋區(qū)域與現(xiàn)有定位單元中的現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域的相似值；

c2.根據(jù)所述相似值和所述圖形相似性閾值，判定所搜尋區(qū)域是否為所要找的現(xiàn)有特征性圖形區(qū)域，其中：

c21.當(dāng)所述相似值大于相似性閾值時(shí)，判定所搜尋區(qū)域?yàn)樗业默F(xiàn)有特征性圖形區(qū)域，并執(zhí)行步驟D；

c22.當(dāng)所述相似值小于相似性閾值時(shí)，降低該相似性閾值的值并再次搜尋。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，步驟c22還包括如下步驟：

c221.當(dāng)再次搜尋之后所述相似值大于降低后的所述相似性閾值，則接收所輸入的對(duì)所搜尋到的區(qū)域是否為特征性圖形區(qū)域的人工確認(rèn)，然后執(zhí)行步驟D；

c222.當(dāng)再次搜尋之后所述相似值小于降低后的所述相似性閾值，則接收所輸入的對(duì)該特征性圖形區(qū)域的人工查找，然后執(zhí)行步驟D。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，步驟D中所述公式為：

X’＝X*cosθ+Y*sinθ+△X

Y’＝-X*sinθ+Y*cosθ+△Y

(X，Y)為原坐標(biāo)點(diǎn)，(X’，Y’)為當(dāng)前坐標(biāo)點(diǎn)，θ為偏轉(zhuǎn)角度，(△X，△Y)為偏移量。