[發明專利]釉下工筆國畫雕刻五彩瓷制品的生產工藝

有效

• 申請號: 201310545626.6
• 申請日: 2013-11-05
• 公開（公告）號: CN103601471A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 鄭艷芳
• 申請（專利權）人: 鄭艷芳
• 主分類號: C04B33/24
• 分類號: C04B33/24;C04B33/32;B28B7/26;B44C5/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種釉下工筆國畫雕刻五彩瓷制品的生產工藝，其特征在于，其按以下步驟進行：

(1)設計：按照藝術構思設計產品的器型、要表現的工筆國畫花面；

(2)制石膏原模：按原模石膏粉：模型器石膏粉＝65％-75％：35％-25％的重量比例將二者稱重后混合，再按混合后的石膏粉：水＝(1.8-2.2)：1的重量比加入水，將水與石膏粉混合均勻后形成石膏漿，將石膏漿倒入石膏車平機上車出產品原模器型；

(3)繪畫：在所述做好的石膏原模上用工筆國畫的白描方法將所設計的工筆國畫花面繪在原模器型表面上，所繪每條白描線條要相交閉合，以形成封閉的圖形輪廓；

(4)雕刻：雕刻時根據石膏原模上的白描稿線條上用刀，先把花面與器型結合的邊緣刻畫出來，即沿著花面邊緣白描線條刻下一淺層，邊緣刻下去后與無圖案的光面通過斜面、弧面或倒圓角過度，達到過度平整自然，這淺層的雕刻深度為0.1mm-0.3mm，然后再把花面中的圖案部分相對該淺層做深層次雕刻，雕時要根據白描稿中的每根線條來雕刻，每根刻下的線條與周邊平面之間雕出過度帶，該過度帶為斜面、弧面或倒圓角過度帶，通過控制線條的雕刻深度及過度帶的寬度及坡度或弧度使每個圖案的層次清楚的表現出來，雕刻時最深的深度不超過3.5mm；在完成線條雕刻后，再在所刻線條框出的圖案輪廓內根據設計要求對全部或部分圖案進行面的淺削，淺削時最深的深度不大于3.0mm；

(5)制模：在雕刻好的石膏原模器型上擦上脫模劑，再根據要求劃好模線，用模型器石膏粉與水按照(1.28-1.32)：1的重量比例制成石膏漿，根據劃好的模線做出第一代原始模具，在脫模方便的基礎上模具分片數不能過多，然后把分好的第一代原始模具刷上洋干柒，再擦上脫模劑保養，再用原模石膏粉與水按照1：(0.37-0.38)的重量比例制成石膏漿倒入做好外圍的第一代原始模具中翻制母模與模圍，把母模與模圍烤至五成干時再刷上洋干柒，擦上脫模劑保養2-2.5小時，再制作若干個生產模具；

(6)制漿與注漿：將成品泥制作成泥漿后采用離心注漿注入生產模具，所需泥漿含水率為28％-35％、比重為1.73-1.78克/立方厘米、流速為120-130秒、細度過150目篩、粘度3.3、H值7.9、變形度為12-14、干收縮度為3％-3.5％之間；

(7)整修洗水：用刀片把注漿成型出來的泥坯半成品中的模線刮掉，然后用毛筆或海棉洗平整，有圖案的部分不要過多的洗水，只要用毛筆或海棉輕輕帶一下，如果圖案有模糊的地方要用刀再刻畫好，沒圖案的部分要洗平和光滑；

(8)素燒：素燒溫度在600-650℃，燒成時間3.5-4小時；

(9)打磨：素燒好的半成品坯體一定要用先用800目的沙紙把坯體表面沒有圖案的地方打磨平整，特別是將整修洗水時留下筆痕和刀痕的地方打磨平整，再用1200目的沙紙二次打磨，使坯體表面光滑，然后上好內釉；

(10)上色：先把素燒過的半成品坯體表面刷點水，使坯體表面無灰塵，上色用勾線、汾水與噴筆噴色工藝相結合，具體是：

a、勾線：用勾線筆順著壞體表面已有的工筆國畫花面凹凸輪廓勾出圖案的輪廓線，即將每一個圖案的邊緣用線筆畫出工筆畫稿，根據圖案設計控制好的力度輕重、線條濃淡；

b、汾水：采用汾水上色工藝，在壞體表面已有輪廓線的工筆國畫花面中根據設計要求在需要上深色的圖案填上所需的顏色；

c、噴色：再就是用0.2-0.5mm口徑的噴筆在汾水填好色需要罩色的地方和只需上淺色的地方用噴筆噴色，完成工筆國畫花面根據工藝藝術要求所需完成的顏色；

(11)烤色：把上完色的產品再進窯爐進行烤色，烤色為800-850℃，烤成時間為4-4.5小時；

(12)上透明釉：按磨好的釉料與水調好濃度為28-32度、比重為1.24-1.29克/立方厘米的透明釉，采用淋釉的方式上釉，然后再用口徑為0.5mm的噴槍補釉，達到設計的上釉厚度；

(13)燒制：制作高溫1350-1380℃還原火焰燒制的陶瓷產品和制作高溫1180-1200℃氧化火焰燒制的陶瓷產品；兩種燒制方法如下

制作高溫1350-1380℃還原火焰燒制的陶瓷產品時，燒成時間、方式為：a、干燥階段以2-4℃每秒的升溫速度燒制2-2.5小時，窯溫升至480-500℃；b、氧化燒階段以3-5℃每秒的升溫速度燒制2-2.5小時，窯溫升至度920-980℃開始轉火保溫0.5小時，做到坯體和釉中氣體與有機物完全排出；c、強還原燒階段，轉火利用還原火焰以2-3℃每秒的升溫速度燒制1.5-2.5小時，窯溫升至1200-1205度后開始慢慢升溫；d、弱還原階段，這時加大窯爐氣壓使其在弱還原氣氛下以1-1.5℃每秒的升溫速度燒制2-2.5小時，窯溫升至1350-1380℃并恒溫0.5-1小時關火；e、降溫階段為自然降溫；降溫后產品出窯便為成品；

制作高溫1180-1200℃氧化火焰燒制的陶瓷產品時，燒成時間、方式為：a、干燥階段以2-4℃每秒的升溫速度燒制2-2.5小時，窯溫升至480-500℃；b、氧化燒階段以3-5℃每秒的升溫速度燒制2-2.5小時，窯溫升至度920-980℃保溫0.5小時，這時不要轉火；c、這一階段一直以氧化火焰1-2℃每秒的升溫速度燒制2-3小時，窯溫升至1180-1200℃并保溫0.5-1小時；d、降溫階段為自然降溫；降溫后產品出窯便為成品。