[發明專利]激光熱成像設備和激光熱成像方法

有效

• 申請號: 201310545005.8
• 申請日: 2013-11-06
• 公開（公告）號: CN103811679B
• 公開（公告）日: 2017-08-04
• 發明（設計）人: 明承鎬;全鎮弘
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司11204
• 代理人: 余朦,楊莘

1.一種激光熱成像設備，包括：

基板載臺，配置成接收基板；

光束照射單元，位于所述基板載臺上方；以及

光束觀察單元，

其特征在于，所述光束照射單元被配置成將對準激光束照射到所述基板的對準標記上；以及

所述光束觀察單元與所述光束照射單元相對，所述基板載臺設置在所述光束觀察單元與所述光束照射單元之間，所述光束觀察單元被配置成觀察所述對準激光束與由所述對準標記形成的所述對準標記的陰影。

2.如權利要求1所述的設備，其中，

所述基板載臺包括與所述對準標記對應的基板載臺孔；以及

所述光束觀察單元被定位成與所述基板載臺孔對應。

3.如權利要求2所述的設備，其中，所述光束觀察單元包括：

反射單元，與所述基板載臺孔對應并且以預定方向反射所述對準激光束；

觀察相機，在所述預定方向上與所述反射單元相隔；以及

觀察透鏡，定位在所述反射單元與所述觀察相機之間并被配置成放大或縮小所述對準激光束。

4.如權利要求3所述的設備，其中，所述光束觀察單元還包括：

中性密度濾光片，設置在所述對準激光束的照射路徑中。

5.如權利要求1所述的設備，還包括：

激光掩模，設置在所述光束照射單元與所述基板載臺之間并包括對準圖案部分，所述對準圖案部分被配置成將從所述光束照射單元照射的初始激光束劃分成所述對準激光束。

6.如權利要求5所述的設備，還包括：

掩模載臺，位于所述光束照射單元與所述基板載臺之間并被配置成接收所述激光掩模；以及

掩模對準相機，位于所述掩模載臺上并被配置成確認所述激光掩模的對準。

7.如權利要求5所述的設備，其中，所述激光掩模還包括：

成像圖案部分，與所述對準圖案部分相鄰并被配置成將所述初始激光束劃分成被照射到所述基板的顯示區域的成像激光束。

8.如權利要求7所述的設備，其中，

供體膜設置在所述基板上，所述成像激光束被配置成照射所述供體膜并且將有機發射層熱成像到所述基板。

9.如權利要求8所述的設備，其中，

所述供體膜由所述基板載臺支承。

10.如權利要求7所述的設備，其中，所述激光掩模包括：

掩模主體，所述掩模主體包括所述對準圖案部分和所述成像圖案部分；以及

蓋，所述蓋被定位在所述掩模主體與所述光束照射單元之間并且被配置成選擇性地覆蓋所述對準圖案部分。

11.如權利要求10所述的設備，其中，

所述蓋被配置成在所述掩模主體的所述對準圖案部分的上部區域與所述掩模主體的外部區域之間進行滑動。

12.如權利要求1所述的設備，其中，

所述基板載臺被配置成沿著第一方向、與所述第一方向交叉的第二方向以及與所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向進行移動。

13.如權利要求12所述的設備，還包括：

主載臺，所述主載臺被配置成支承所述基板載臺和所述光束觀察單元，并且被配置成沿著所述第一方向和所述第二方向進行移動。

14.如權利要求12所述的設備，還包括：

基板對準相機，位于所述基板載臺上并被配置成確認所述基板的對準。

15.一種激光熱成像方法，所述方法包括：

對基板進行定位；

將對準激光束照射到所述基板的對準標記上；

對所述對準激光束以及由所述對準標記形成的所述對準標記的陰影進行觀察；

對所述對準標記的所述陰影與所述對準激光束的對準進行比較；以及

對所述基板與所述對準激光束中的至少一個進行對準。

16.如權利要求15所述的方法，還包括：

使用已對準的基板或對準激光束執行激光誘導熱成像操作，使得成像激光束被照射到供體膜上以將有機發射層熱成像到所述基板上。