[發明專利]青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法有效
| 申請號: | 201310543088.7 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103626937A | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發明(設計)人: | 傅強;周會艷;杜瑋;鄭鵬磊;王薇薇;常春 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | C08F292/00 | 分類號: | C08F292/00;C08F220/06;C08F222/14;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 陸萬壽 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 青霉素 表面 分子 印跡 聚合物 制備 方法 | ||
1.一種青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
1)硅膠的活化
稱取硅膠,用酸的水溶液進行回流活化,然后用蒸餾水洗至中性,然后干燥得到活化硅膠;
2)硅膠的改性
稱取活化后硅膠,加入硅烷偶聯試劑、甲苯和三乙胺,加熱后反應,加熱并攪拌回流;用甲醇洗凈、干燥后得到改性硅膠;
3)硅膠表面化學接枝
在有機溶劑的介質中,將功能單體接枝到改性硅膠上,得到接枝微粒;
4)產物制得
將接枝微粒加到青霉素鈉溶液中,加入交聯劑、引發劑,氮氣除氧,加熱反應;反應結束后洗去模板分子青霉素鈉,干燥,即得青霉素鈉表面分子印跡材料。
2.根據權利要求1所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟1)中,所述硅膠的粒徑在50~150μm之間,所述酸為體積濃度是10%的鹽酸。
3.根據權利要求1或2所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟1)具體為:每100mL10%HCl溶液中加入12g硅膠,100-110℃加熱攪拌回流12-24h,用蒸餾水洗至中性,50-60℃干燥12-24h后得到活化硅膠。
4.根據權利要求1所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟2)中,所述硅烷偶聯試劑為3-氨丙基三乙氧基硅烷。
5.根據權利要求1或4所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟2)具體為:每5g活化硅膠加入2-4mL3-氨丙基三乙氧基硅烷、50-100mL甲苯以及1-2mL三乙胺,100-110℃加熱攪拌回流12-24h,用甲醇洗凈,50-60℃干燥12-24h后得到改性硅膠。
6.根據權利要求1所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟3)中,所用有機溶劑為甲醇和乙腈按照體積比為1:1的混合物;所述功能單體為甲基丙烯酸。
7.根據權利要求1或6所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟3)具體為:每0.1782g青霉素G原料,用5-10mL甲醇超聲溶解后加5-10mL乙腈,加入功能單體甲基丙烯酸84-168μL以及1-2g改性硅膠,室溫下攪拌過夜得到接枝微粒。
8.根據權利要求1所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟4)中,所述交聯劑為乙二醇二甲基丙烯酸酯,所述引發劑為偶氮二異丁腈。
9.根據權利要求1或8所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,步驟4)具體為:每10-20mL青霉素鈉溶液中加入1-2g接枝微粒,再加入476-952μL交聯劑和0.0082-0.0164g引發劑,超聲攪拌10-20min,再向溶液中通入氮氣10-20min,將容器密封,在50-60℃水浴下反應12-24h,將反應產物減壓抽濾,并用20-30mL甲醇洗滌,然后用5-10mL丙酮漂洗;50-100mL甲醇和冰醋酸混合液索氏提取24h以除去模板分子;然后依次用20-30mL乙腈水溶液,10-20mL甲醇洗至中性,50-60℃真空干燥12-24h后得到青霉素鈉表面分子印跡材料。
10.根據權利要求9所述的青霉素鈉表面分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所述甲醇和冰醋酸混合液中,甲醇和冰醋酸的體積比為4:1;所述乙腈水溶液中,乙腈與水的體積比為20:80。
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