[發明專利]微通道冷卻渦輪構件和形成微通道冷卻渦輪構件的方法在審
| 申請號： | 201310543075.X | 申請日： | 2013-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN103806961A | 公開（公告）日： | 2014-05-21 |
| 發明（設計）人： | D.E.希克;S.C.科蒂林加姆;B.P.萊西 | 申請（專利權）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號： | F01D25/12 | 分類號： | F01D25/12 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;譚祐祥 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 通道 冷卻 渦輪 構件 形成 方法 | ||
1.?一種微通道冷卻渦輪構件，包括：
所述微通道冷卻渦輪構件的第一部分，其具有基底表面；
所述微通道冷卻渦輪構件的第二部分，其包括激光熔合在所述基底表面上的物質；以及
至少一個微通道，其沿所述第一部分和所述第二部分中的至少一個延伸，所述至少一個微通道在所述第二部分形成時即形成和封閉。
2.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述物質包括粉末。
3.?根據權利要求2所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述粉末被構造成在用激光熔融時即形成金屬。
4.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述第二部分包括多個層。
5.?根據權利要求4所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述多個層中的每一個包括約0.005mm至約0.100mm的厚度。
6.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述至少一個微通道部分地在所述第一部分中且部分地在所述第二部分中形成。
7.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述至少一個微通道完全形成于所述第一部分中。
8.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述至少一個微通道完全形成于所述第二部分中。
9.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，還包括在所述第二部分的形成期間形成的微通道進料孔和出口孔中的至少一個。
10.?根據權利要求1所述的微通道冷卻渦輪構件，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分形成渦輪護罩的至少一部分。
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