[發(fā)明專利]真空吸附傳送裝置和基板傳送方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310542460.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103560104A | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳國(guó);陳啟超;韓亞軍;葉超;王濤;鄭鐵元 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/683 | 分類號(hào): | H01L21/683;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 真空 吸附 傳送 裝置 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示器制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種真空吸附傳送裝置和基板傳送方法。
背景技術(shù)
目前,顯示器的制造過(guò)程中,需要在玻璃基板進(jìn)行各種工藝,在很多工藝完成后需要利用微觀檢查機(jī)對(duì)玻璃基板進(jìn)行微觀檢測(cè),以避免不良的發(fā)生。在進(jìn)行基板的微觀檢測(cè)時(shí),需要通過(guò)真空吸附傳送裝置將基板固定并帶動(dòng)基板移動(dòng)。
如圖1所示,真空吸附傳送裝置包括用于吸附基板1的多個(gè)真空吸盤2,每個(gè)真空吸盤2單獨(dú)通過(guò)一個(gè)真空管與動(dòng)力廠房管道連通,多個(gè)真空吸盤2間隔排列并吸附在基板1的一側(cè)邊緣處以實(shí)現(xiàn)對(duì)基板1的固定。然而,現(xiàn)有的真空吸附傳送裝置在固定基板時(shí)的可靠性較低,具體體現(xiàn)在:由于吸附區(qū)域與未吸附區(qū)域之間的受力不同,會(huì)導(dǎo)致基板邊緣扭曲,從而引起基板破碎;另外,長(zhǎng)時(shí)間使用后的多個(gè)真空吸盤無(wú)法保證處于同一水平面上,會(huì)導(dǎo)致無(wú)法對(duì)基板進(jìn)行良好的固定,需要進(jìn)行校準(zhǔn)調(diào)節(jié)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種真空吸附傳送裝置和基板傳送方法,提高了在基板固定時(shí)的可靠性。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一方面,提供一種真空吸附傳送裝置,包括:
真空吸附板,所述真空吸附板具有中空腔體和吸附平面,所述吸附平面上設(shè)置有多個(gè)與所述中空腔體連通的吸附孔,所述真空吸附板上還設(shè)置有與所述中空腔體連通的真空管。
具體地,所述真空管上設(shè)置有真空控制閥。
具體地,上述真空吸附傳送裝置還包括:
傳動(dòng)裝置,所述真空吸附板固定設(shè)置于所述傳動(dòng)裝置上;
所述傳動(dòng)裝置上還設(shè)置有夾具,所述夾具具有壓置端,所述壓置端用于靠近所述真空吸附板以壓住所述真空吸附板的吸附平面上吸附的基板。
具體地,所述真空吸附板通過(guò)固定支架固定設(shè)置于所述傳動(dòng)裝置上。
具體地,所述夾具包括固定端和所述壓置端;
所述夾具通過(guò)所述固定端鉸接于所述傳動(dòng)裝置上,所述夾具沿所述固定端旋轉(zhuǎn)使所述壓置端靠近或遠(yuǎn)離所述真空吸附板。
優(yōu)選地,所述夾具為多個(gè),所述多個(gè)夾具等間距設(shè)置為一排。
優(yōu)選地,所述多個(gè)吸附孔在所述吸附平面上均勻設(shè)置。
另一方面,提供一種基板傳送方法,包括:利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板。
具體地,所述真空吸附傳送裝置中的所述吸附平面與所述基板接觸的區(qū)域不超出所述基板的邊緣非顯示區(qū)域。
具體地,所述利用上述的真空吸附傳送裝置傳送所述基板包括:
運(yùn)送所述基板使所述真空吸附傳送裝置中的真空吸附板位于所述基板的下表面邊緣;
通過(guò)所述真空吸附傳送裝置中的真空管抽真空后使所述基板通過(guò)吸附孔被吸附固定于所述真空吸附板上;
控制所述真空吸附板移動(dòng)來(lái)傳送所述基板。
本發(fā)明提供的真空吸附傳送裝置和基板傳送方法,通過(guò)具有平整表面的真空吸附板對(duì)基板進(jìn)行固定,多個(gè)吸附孔之間的平板對(duì)基板起到支撐作用,從而使基板的受力更加均勻,減少了基板扭曲破碎的可能性;并且由于真空吸附板為一個(gè)整體結(jié)構(gòu),能夠始終保持吸附平面的狀態(tài),無(wú)需進(jìn)行水平校準(zhǔn)調(diào)節(jié)。因此提高了在基板固定時(shí)的可靠性。
附圖說(shuō)明
為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為傳統(tǒng)的一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例中一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為圖2中真空吸附傳送裝置吸附基板時(shí)的示意圖;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例中另一種真空吸附傳送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖5為圖4中真空吸附傳送裝置吸附基板時(shí)的示意圖;
圖6為本發(fā)明實(shí)施例中一種基板傳送方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





