[發明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置無效
| 申請號: | 201310542350.6 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103558706A | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發明(設計)人: | 崔曉鵬 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;C03C17/30 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板的制備方法,包括制備黑矩陣的步驟,其特征在于,包括:
提供一襯底基板,在制備黑矩陣前,對所述襯底基板進行表面富羥基化處理;以及,
利用可聚合硅氧烷溶液處理完成上述步驟的所述襯底基板,使所述可聚合硅氧烷的偶聯基團與所述襯底基板的表面的羥基連接;
在完成上述步驟的所述襯底基板上形成用于制備黑矩陣的樹脂材料,通過曝光工藝使所述可聚合硅氧烷的可聚合基團與所述樹脂材料的可聚合基團連接,再通過顯影工藝形成所述黑矩陣。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,對所述襯底基板進行表面富羥基化處理包括利用酸性溶液、堿性溶液或雙氧水淋洗和/或浸泡所述襯底基板;或者,利用等離子體轟擊所述襯底基板的表面。
3.如權利要求2所述的方法,其特征在于,所述酸性溶液包括鹽酸溶液、硫酸溶液和重鉻酸鉀溶液中的任意一種或任意組合形成的混合溶液。
4.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述酸性溶液的濃度為1%至30%。
5.如權利要求4所述的方法,其特征在于,利用酸性溶液處理所述襯底基板的總時間為1至60分鐘。
6.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述可聚合硅氧烷還包括連接所述偶聯基團和所述可聚合基團的連接基團,所述連接基團為包含有醚鍵、酯鍵、酰胺鍵或碳酸酯鍵的烷基鏈,或聚合物接枝鏈,所述可聚合基團為丙烯酸酯基團、甲基丙烯酸酯基團、苯乙烯基基團、環氧基團中的任意一種。
7.如權利要求6所述的方法,其特征在于,所述可聚合硅氧烷溶液的濃度為1%至30%。
8.如權利要求6所述的方法,其特征在于,利用可聚合硅氧烷溶液處理所述襯底基板的溫度為5℃至40℃,時間為1至60分鐘。
9.一種顯示基板,其特征在于,采用如權利要求1至8任一項所述的方法制備。
10.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求9所述的顯示基板。
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