[發(fā)明專利]一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310541220.0 | 申請日： | 2013-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN103529503A | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王國祥;王紀(jì)盛;劉蘭蘭 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市昂特爾太陽能投資有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/10 | 分類號： | G02B5/10;G02B19/00 |
| 代理公司： | 北京市金棟律師事務(wù)所 11425 | 代理人： | 邢江峰 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 聚光 太陽能 模組 雙曲面 反射 | ||
1.一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：包括雙曲面基板和反射層，所述反射層設(shè)置在所述雙曲面基板的凹面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述雙曲面基板凹面的曲面在三維坐標(biāo)系中的X軸、Y軸和Z軸方向上的關(guān)系如下：以曲面的一角為原點(diǎn)，Z=(X·X+Y·Y)/ａ，ａ的取值范圍為700-1200mm，式中，Z為Z軸方向的高度，X為X軸方向的長度，Y為Y軸方向的長度，X和Y的單位為毫米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：采用真空鍍膜工藝將所述反射層鍍在所述雙曲面基板的凹面上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述真空鍍膜工藝為真空濺射、真空蒸發(fā)鍍或者真空離子鍍之一。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述雙曲面基板的材質(zhì)為玻璃、鋁合金或者塑料之一。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述反射層為金屬鍍層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述金屬鍍層為銀鍍層、鋁鍍層或者金鍍層之一。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4或7所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述金屬鍍層的厚度為80-120μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述雙曲面基板的厚度為2-5mm。
10.根據(jù)權(quán)利要求1、2、4、7或9所述的一種用于聚光太陽能模組的雙曲面反射鏡，其特征在于：所述雙曲面基板的四邊具有倒角。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳市昂特爾太陽能投資有限公司，未經(jīng)深圳市昂特爾太陽能投資有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310541220.0/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
