[發明專利]石墨烯鍍層的制造方法

在審

• 申請號: 201310541119.5
• 申請日: 2013-11-01
• 公開（公告）號: CN104109836A
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發明（設計）人: 黃家宏;邱松茂;鐘崇仁;吳博雄
• 申請（專利權）人: 財團法人金屬工業研究發展中心
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/06;C23C14/58
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于以濺鍍工藝在基材形成石墨鍍層，以及對該石墨鍍層進行光刻工藝，使該石墨鍍層薄化成石墨烯層。

2.如權利要求1所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于在該光刻工藝中以離子源薄化該石墨鍍層，以使該石墨鍍層的部分自該石墨鍍層剝離而薄化成該石墨烯層。

3.如權利要求2所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于該離子源薄化該石墨鍍層的電壓為0.5KV-1.2KV、照射時間為2min-7min、氣體流量為20SCCM-35SCCM。

4.如權利要求1所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于在進行該濺鍍工藝前對該基材進行清洗步驟及干燥步驟。

5.如權利要求4所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于該清洗步驟提供超音波震蕩堿水浴，加熱該超音波震蕩堿水浴后將該基材放置于該超音波震蕩堿水浴，完成該清洗步驟后進行該干燥步驟，該干燥步驟將該基材放置于烘箱中烘烤。

6.如權利要求5所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于該超音波震蕩堿水浴加熱的溫度不小于攝氏100度且該基材放置于該超音波震蕩堿水浴的時間不小于1小時。

7.如權利要求1所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于該濺鍍工藝是在濺鍍機進行，該濺鍍機具有真空腔，在該真空腔中放置石墨靶材及該基材，且提供反應性氣體在該真空腔內，以進行該濺鍍工藝。

8.如權利要求7所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于在進行該濺鍍工藝后另包含有抽氣步驟，其將該反應性氣體抽離該真空腔。

9.如權利要求7所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于在進行該光刻工藝前另包含有通氣步驟，其通入氬氣在該真空腔。

10.如權利要求1所述的石墨烯鍍層的制造方法，其特征在于該濺鍍工藝的工藝溫度不大于攝氏250度。