[發(fā)明專利]電光裝置及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310541115.7 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103809321B | 公開(公告)日: | 2018-09-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 杉本陽平;伊藤淳;山崎亮介;春山明秀 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 萬利軍;陳海紅 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電光 裝置 電子設(shè)備 | ||
1.一種電光裝置,其特征在于,
具備:
第一基板;
透光性的第二基板;
電光層,其由所述第一基板和所述第二基板夾持;和
第一透光性膜、第二透光性膜和第三透光性膜,它們配置于所述第二基板與所述電光層之間且從所述第二基板側(cè)依次形成,
所述第二透光性膜的折射率,比所述第二基板的折射率大,且比所述第一透光性膜的折射率小,也比所述第三透光性膜的折射率小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光裝置,其特征在于,
還在所述第二基板與所述第一透光性膜之間具備第四透光性膜,
所述第四透光性膜的折射率,比所述第二基板的折射率大且比所述第一透光性膜的折射率小。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電光裝置,其特征在于,
所述第一透光性膜的折射率和所述第三透光性膜的折射率大體相等,且所述第二透光性膜的折射率和所述第四透光性膜的折射率大體相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的電光裝置,其特征在于,
還在所述第三透光性膜上具備第五透光性膜,
所述第五透光性膜的折射率,比所述第二基板的折射率大且比所述第三透光性膜的折射率小。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電光裝置,其特征在于,
所述第一透光性膜的折射率和所述第三透光性膜的折射率大體相等,且所述第二透光性膜的折射率和所述第五透光性膜的折射率大體相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3以及5中任一項(xiàng)所述的電光裝置,其特征在于,
所述第二透光性膜是含有硼和磷的氧化硅膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電光裝置,其特征在于,
所述第二透光性膜是含有硼和磷的氧化硅膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、5以及7中任一項(xiàng)所述的電光裝置,其特征在于,
所述第三透光性膜是導(dǎo)電性的膜。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電光裝置,其特征在于,
所述第三透光性膜是導(dǎo)電性的膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電光裝置,其特征在于,
所述第三透光性膜是導(dǎo)電性的膜。
11.一種電子設(shè)備,其特征在于,
具備權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的電光裝置。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





