[發(fā)明專利]電子電路板工藝中的廢銅液回收方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310538749.7 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103614557A | 公開(公告)日: | 2014-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 夏澤軍 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山宏凌電子有限公司 |
| 主分類號: | C22B7/00 | 分類號: | C22B7/00 |
| 代理公司: | 北京瑞思知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11341 | 代理人: | 李濤 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電子 電路板 工藝 中的 廢銅液 回收 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明有關(guān)于電子行業(yè),特別是對電子電路板工藝中的廢銅液回收方法。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,具有更高性能和更強(qiáng)功能的集成電路要求更大的元件密度,而且各個(gè)部件、元件之間或各個(gè)元件自身的尺寸、大小和空間也需要進(jìn)一步縮小,即特征尺寸具有不斷縮小的要求。
與之相對應(yīng)的印制電路板制造技術(shù)是一項(xiàng)非常復(fù)雜的、綜合性很高的加工技術(shù)。通常采用化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝,即采用化學(xué)和機(jī)械的去除、研磨、拋光工序?qū)︺~金屬進(jìn)行處理,產(chǎn)生廢液廢渣等雜質(zhì)和污染。
在上述廢液、廢水中,通常以銅主,并還有不少其他的重金屬和貴金屬,如有鉛、錫、金、銀、氟、氨、有機(jī)物和有機(jī)絡(luò)合物等。
這些存在于廢液、廢水中的金屬如不經(jīng)處理就排放,既造成了浪費(fèi)又污染了環(huán)境。因此,在印制板生產(chǎn)過程中的廢水處理和銅等金屬的回收是很有意義的,是印制板生產(chǎn)中不可缺少的部分。??????
為此需要一種針對電子電路板制作行業(yè)生產(chǎn)特點(diǎn)的電子電路板工藝中的廢銅液回收方法。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種電子電路板工藝中的廢銅液回收方法,包括:
1.提供電子電路板工藝中產(chǎn)生的含銅廢堿溶液;
2.提供電子電路板工藝中產(chǎn)生的含銅廢酸溶液;
3.將所述廢堿溶液和廢酸溶液中和,并調(diào)至pH為5.5至6.5;
4.?過濾所述中和液;
5.?向所述中和液中加入硫化鈉形成沉淀并過濾沉淀CuS。
本發(fā)明將廢液中的銅轉(zhuǎn)化成沉淀,且方法簡便,材料費(fèi)用低,便于大規(guī)模操作。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種電子電路板工藝中的廢銅液回收方法,包括:
1.提供電子電路板工藝中產(chǎn)生的含銅廢堿溶液;
2.提供電子電路板工藝中產(chǎn)生的含銅廢酸溶液;
3.將所述廢堿溶液和廢酸溶液中和,并調(diào)至pH為5.5至6.5;
4.?過濾所述中和液;
5.?向所述中和液中加入硫化鈉形成沉淀并過濾沉淀CuS。
在本發(fā)明的方案中,針對不同工藝階段產(chǎn)生的含有銅的廢液進(jìn)行化學(xué)方法處理,并將其中的銅以沉淀物的形式固定。其方法簡便,材料費(fèi)用低,便于大規(guī)模的工業(yè)生產(chǎn)。
作為一個(gè)實(shí)施例,所述含銅廢堿溶液是介質(zhì)為氯化銨—氨水銅氨溶液,優(yōu)選的其pH為9~10。
作為另一個(gè)實(shí)施例,所述含銅廢酸溶液是介質(zhì)為鹽酸的銅溶液,優(yōu)選的其pH<4。
經(jīng)過此法廢液中的銅以固態(tài)的沉淀析出,便于保存,防止后續(xù)污染,同時(shí)方法簡便,成本低,適合工業(yè)使用。
應(yīng)了解本發(fā)明所要保護(hù)的范圍不限于非限制性實(shí)施方案,應(yīng)了解非限制性實(shí)施方案僅僅作為實(shí)例進(jìn)行說明。本申請所要要求的實(shí)質(zhì)的保護(hù)范圍更體現(xiàn)于獨(dú)立權(quán)利要求提供的范圍,以及其從屬權(quán)利要求。
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