[發(fā)明專利]一種彩膜基板及具有該彩膜基板的顯示裝置無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310537960.7 | 申請(qǐng)日： | 2013-11-04 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN103576377A | 公開(kāi)（公告）日： | 2014-02-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃常剛;張思凱 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/1335 | 分類號(hào)： | G02F1/1335;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243 | 代理人： | 許靜;黃燦 |
| 地址： | 100015 *** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 彩膜基板 具有 顯示裝置 | ||
1.一種彩膜基板，包括：基板，形成于所述基板一側(cè)的黑矩陣，形成于所述黑矩陣上的彩色樹(shù)脂單元，其特征在于，還包括：形成于所述彩色樹(shù)脂單元之上的第一透明減反膜，所述第一透明減反膜的折射率大于第一預(yù)定折射率。
2.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一透明減反膜同時(shí)作為所述彩色樹(shù)脂單元的保護(hù)層直接形成于所述彩色樹(shù)脂單元之上。
3.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，還包括：形成于所述彩色樹(shù)脂單元和所述第一透明減反膜之間的保護(hù)層。
4.如權(quán)利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，還包括：
形成于所述彩色樹(shù)脂單元與所述保護(hù)層之間的第二透明減反膜，所述第二透明減反膜的折射率大于第二預(yù)定折射率。
5.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二預(yù)定折射率大于或等于1.5。
6.如權(quán)利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二透明減反膜采用二氧化硅、二氧化鈦或二氧化鉿制成。
7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一透明減反膜采用二氧化硅、二氧化鈦或二氧化鉿制成。
8.如權(quán)利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一預(yù)定折射率大于或等于1.5。
9.如權(quán)利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，還包括：形成于所述基板另一側(cè)的電極層。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的彩膜基板。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
