[發明專利]一種用于介質內測量薄膜厚度和折射率的裝置

有效

• 申請號: 201310537707.1
• 申請日: 2013-11-04
• 公開（公告）號: CN103759661A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 彭瑜
• 申請（專利權）人: 北京理工大學
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01N21/21
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于介質內測量薄膜厚度和折射率的裝置，其特征在于：包括半導體二極管、非球面準直透鏡、衍射光柵、半波片、可拆解的隔離器、PD探測器、F-P腔、F-P腔壓電陶瓷和F-P腔熱沉；

所述F-P腔包括第一高反射膜、第二高反射膜和被測反射膜；第一高反射膜和第二高反射膜，均為平面結構，成一定角度放置，構成F-P腔的兩端反射面，反射率能達到99.9％；所成角度能保證光束分別垂直入射第一高反射膜和第二高反射膜；待測反射膜作為平面環形F-P腔的入射面和輸出耦合面；

F-P腔壓電陶瓷粘在F-P腔的第一高反射膜上，能對F-P腔進行頻率調諧；

所述可拆解的隔離器包括第一偏振分束器、第二偏振分束器和磁極；第一偏振分束器、第二偏振分束器通過磁極連接；

非球面準直透鏡位于半導體二極管與衍射光柵之間，與半導體二極管同軸，位于衍射光柵的左側位置，成衍射光的入射角；可拆解的隔離器位于衍射光柵的右側位置，成第一衍射角；PD探測器位于第一偏振分束器的正下方；半波片位于可拆解的隔離器ISO與被測反射膜中間，與可拆解的隔離器ISO共軸；

自半導體二極管發出的光線經非球面準直透鏡準直后，入射到衍射光柵，再經衍射光柵衍射，其一級衍射被原路反射回，零級衍射經可拆卸的光隔離器后，再經過半波片，入射到F-P腔形成光反饋，其反饋光依次通過第二偏振分束器、第一偏振分束器后，被PD探測器檢測，通過示波器顯示，實現對反饋光強度和光譜特性的檢測。

2.根據權利要求1所述的一種用于介質內測量薄膜厚度和折射率的裝置，其特征在于：第一偏振分束器和第二偏振分束器能分別順時針或者逆時針旋轉。

3.根據權利要求1所述的一種用于介質內測量薄膜厚度和折射率的裝置，其特征在于：所述半波片能沿順時針或者逆時針旋轉。