[發明專利]一種光敏無砂目印版及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 201310537517.X
• 申請日: 2013-11-04
• 公開（公告）號: CN103587273B
• 公開（公告）日: 2018-11-27
• 發明（設計）人: 宋延林;楊明;沙栩正;劉云霞;吳為;王坤嬋
• 申請（專利權）人: 北京中科納新印刷技術有限公司
• 主分類號: B41N3/03
• 分類號: B41N3/03;G03F7/004
• 代理公司: 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275
• 代理人: 張水俤

本發明公開了一種光敏無砂目印版及其制備方法。該光敏無砂目印版由版基、親水層和光敏層組成，親水層、光敏層依次涂覆在版基之上。本發明將納米級和/或微米級顆?；蚝屑{米級和/或微米級顆粒的組合物涂布在版基表面得到親水性涂層，制得的親水層具有適宜的粗糙度，使版基的表面具有親水性和保水性。親水層中的納米級和/或微米級親水物顆粒的存在不僅滿足吸墨性的要求，還提高了版基表面的耐磨性，同時親水層與版基和光敏層的粘結力均很好。本發明不僅對現有的光敏版進行了改進提高了其性能，而且避免了現有光敏版對鋁版進行電解和氧化產生的廢酸、廢堿液對環境造成的污染，同時用水量節約70%，用電量節省約50%。

技術領域

本發明屬于印版制備技術領域，特別涉及一種光敏無砂目印版及其制備方法，并將其應用于印刷領域。

背景技術

隨著計算機技術在印刷業的廣泛應用，CTP技術逐漸獲得了印刷企業的關注。對CTP技術來說，CTP版材的質量和應用是保證制版質量的關鍵。CTP技術經過十幾年的發展，逐漸形成了三大類：熱敏CTP版材、銀鹽CTP版材和光敏CTP版材。光敏版的制作流程為：版基清洗-除油-清洗-電解砂目-水洗-除灰-水洗-氧化-水洗-封孔-水洗-烘干-涂布液-烘干-裁切-包裝。光敏CTP版材的主要特點包括：紫激光波長較短（405nm），能夠形成銳利、精確的網點；成本低，版材的沖洗不需要額外步驟包裝安全，處理流程的成本較低；操作者使用黃色安全燈即可，更加方便；耐化學性高，可正常使用潔版膏、潤版液、油墨清洗劑等印刷輔材；制版速度快，這主要是由于光敏CTP版材比熱敏CTP版材更敏感。光敏版的基本組成為鋁版基和感光層。為了使鋁版基的耐印力及分辨力提高，通常要對鋁版進行陽極氧化及砂目化處理（見CN85100875），使金屬版基的表面具有一定的粗糙度。陽極氧化時須使用大量的酸、堿對鋁版進行預處理，而酸、堿的廢液不僅對環境易造成較大污染，而且使版材整體的造價提高。

發明內容

為解決上述現有技術中出現的問題，本發明提供一種光敏無砂目印版及其制備方法，并將其應用于印刷領域。本發明制備的光敏無砂目印版，其涂覆的親水層可實現具有與電解砂目化及陽極氧化處理后相似的性能，即可代替經電解砂目化及陽極氧化處理后的版基，從而達到避免陽極氧化產生的廢酸及廢堿污染環境的目的。

本發明制備的光敏無砂目印版由版基、親水層和光敏層組成，親水層、光敏層依次涂覆在版基之上。

上述的版基選自金屬板、塑料板、或復合材料板。

上述的親水層含有納米級和/或微米級顆粒。

上述的親水層包含均勻分散的納米級和/或微米級顆粒和樹脂。

上述的親水層由包含均勻分散的納米級和/或微米級顆粒、樹脂和溶劑的組合物混合并研磨分散后涂覆在版基上得到。

上述的親水層由均勻分散的納米級和/或微米級顆粒、樹脂、交聯劑和溶劑混合并研磨分散后涂覆在版基上得到。

上述的納米級和/或微米級顆粒為納米級或微米級粘土、硅溶膠、氧化鋅、氧化鋁、二氧化鈦、二氧化硅、氧化鎘、氧化釩、二氧化鈰、氧化鋯中的一種或幾種。

上述的交聯劑與納米級和/或微米級顆粒的質量比為(1:5)-(1:25)，上述的交聯劑為多環氧單體類交聯劑、環氧樹脂、熱固性酚醛樹脂、聚氨酯類交聯劑、或乙烯基醚類交聯劑。

上述的多環氧單體類交聯劑具體選自：雙環氧化丁二烯、2,2’-[1,4-亞苯基雙(氧甲烯)]雙環氧乙烷、9,9-二[(2,3-環氧丙氧基)苯基]芴、季戊四醇縮水甘油醚、2,2-雙-(4-甘胺氧苯)丙烷、1,4-雙[(縮水甘油氧)甲基]環己烷；上述的聚氨酯類交聯劑具體選自：甲苯二異氰酸酯、4,4-二苯基甲烷二異氰酸酯、芳香族異氰酸酯、異佛爾酮異氰酸酯、六次甲基二異氰酸酯、1,12-十二烷二異氰酸酯；上述的乙烯基醚類交聯劑具體選自：1,4-環己烷二甲醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯基醚、1,6-己二醇二乙烯醚。