[發明專利]清潔設備無效
| 申請號: | 201310535064.7 | 申請日: | 2013-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN103801524A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發明(設計)人: | 金山富士夫;小川剛;山田和義;大瀧秀一 | 申請(專利權)人: | 索尼公司 |
| 主分類號: | B08B1/00 | 分類號: | B08B1/00 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 褚海英;陳桂香 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 清潔 設備 | ||
1.一種清潔設備,其包括:
供應輥,其供應帶狀清潔帶;
收集輥,其收集由所述供應輥供應的清潔帶;
導輥,其設在所述供應輥與所述收集輥之間且對所述清潔帶進行導引;以及
一對按壓件,所述一對按壓件設置為隔著被清潔物而相互面對,并且彼此靠近或彼此分開,通過所述導輥對所述清潔帶進行導引,從而使所述被清潔物位于所述清潔帶和所述清潔帶之間,通過使所述按壓件將所述被清潔物與所述清潔帶保持在一起而對所述被清潔物進行清潔,
其中,設有一組所述供應輥和所述收集輥,所述被清潔物通過使用在一個清潔帶的一個表面上形成的第一清潔面和在另一個表面上形成的第二清潔面而被清潔,并且,
所述導輥對所述清潔帶進行導引,從而使位于一側的所述清潔帶的所述第一清潔面與位于另一側的所述清潔帶的所述第二清潔面之間隔著所述被清潔物而相互面對,并使所述清潔帶穿過所述被清潔物的一側和另一側。
2.如權利要求1所述的清潔設備,
其中,在所述清潔帶的路徑上,在所述第一清潔面和所述第二清潔面中的一個清潔面穿過所述被清潔物一側的位置與所述第一清潔面和所述第二清潔面中的另一個清潔面穿過所述被清潔物另一側的位置之間設有去除機構,該去除機構用于去除附著在已經穿過所述被清潔物一側的一個清潔面上的異物。
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