[發(fā)明專利]高溫低壓通氫氣凈化工件及滲碳爐的工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310534951.2 | 申請(qǐng)日： | 2013-11-01 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN103556104A | 公開(kāi)（公告）日： | 2014-02-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫永志;靳新華;王景秋;杜炳乾;修德強(qiáng);徐明明;林建東;魏雷蕾;張純建 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 煙臺(tái)福爾精密機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C8/20 | 分類號(hào)： | C23C8/20;C23C8/44;C23C8/64;F27D25/00 |
| 代理公司： | 北京世譽(yù)鑫誠(chéng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11368 | 代理人： | 孫國(guó)棟 |
| 地址： | 264000 山東*** | 國(guó)省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 高溫 低壓 氫氣 凈化 工件 滲碳 工藝 | ||
1.高溫低壓通氫氣凈化工件及滲碳爐的工藝，其特征在于，包括以下步驟：
（一）抽真空加熱：將真空滲碳爐抽真空，真空度為5Pa，升溫到910℃后保溫；
（二）通氫氣：向真空滲碳爐內(nèi)通入氫氣，直至真空滲碳爐的壓力達(dá)到200Pa，氫氣還原爐體的炭灰以及凈化工件的表面；
（三）抽出氫氣：氫氣還原爐體的炭灰以及凈化工件表面后，抽出滲碳爐內(nèi)的氫氣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫低壓通氫氣凈化工件及滲碳爐的工藝，其特征在于，所述的（一）抽真空加熱采用階梯加熱方式升溫：
（1）、真空滲碳爐抽真空，真空度為5Pa，充氮?dú)鈱?duì)流加熱到550℃，保溫25-30min；
（2）、真空滲碳爐抽真空，真空度為5Pa，真空加熱到850℃，保溫25-30min；
（3）、再真空加熱到910℃，保溫25-30min。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高溫低壓通氫氣凈化工件及滲碳爐的工藝，其特征在于，氮?dú)獾膶?duì)流壓力為1.1MPa。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫低壓通氫氣凈化工件及滲碳爐的工藝，其特征在于，氫氣的流量為2000L/h。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C8-00 金屬材料表面中僅滲入非金屬元素的固滲
C23C8-02 .被覆材料的預(yù)處理
C23C8-04 .局部表面的處理，例如使用掩蔽物的
C23C8-06 .使用氣體的
C23C8-40 .使用液體，例如鹽浴、懸浮液的
C23C8-60 .使用固體，例如粉末、膏劑的
