[發(fā)明專利]一種加氫處理催化劑、其制造方法及其應(yīng)用

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310533922.4
• 申請(qǐng)日: 2013-10-31
• 公開（公告）號(hào): CN103801314A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊占林;姜虹;唐兆吉;王繼鋒;溫德榮;魏登凌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)石油化工股份有限公司;中國(guó)石油化工股份有限公司撫順石油化工研究院
• 主分類號(hào): B01J23/883
• 分類號(hào): B01J23/883;C10G45/08
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 孫秀武;楊思捷

1.一種加氫處理催化劑，其特征在于，為顆粒狀，并且包含多孔性耐熔載體(優(yōu)選選自多孔性耐熔氧化物中的一種或多種，更優(yōu)選選自多孔性無機(jī)耐熔氧化物中的一種或多種，更優(yōu)選選自元素周期表中第II族、第III族和第IV族元素的氧化物中的一種或多種，更優(yōu)選選自二氧化硅、氧化鋁、氧化鎂、氧化硅鋁、氧化硅鎂和氧化鋁鎂中的一種或多種，進(jìn)一步優(yōu)選氧化鋁)和在所述多孔性耐熔載體上負(fù)載的活性金屬組分A、活性金屬組分B、活性金屬組分C和任選的助劑組分，其中所述活性金屬組分A是Ni，所述活性金屬組分B選自元素周期表中除Ni以外的其他第VIII族金屬中的一種或多種，優(yōu)選選自元素周期表中除Ni以外的其他第VIII族非貴金屬中的一種或多種，更優(yōu)選Co，所述活性金屬組分C選自元素周期表中第VIB族金屬中的一種或多種，優(yōu)選選自Mo和W中的一種或多種，更優(yōu)選Mo，所述助劑組分選自氟、硅、磷、鈦、鋯和硼中的一種或多種，優(yōu)選選自氟和磷中的一種或多種，更優(yōu)選磷，

其中，

所述活性金屬組分A的濃度分布滿足以下條件(I)或(II)之一，

(I)在每個(gè)所述催化劑顆粒的橫截面上基本上均勻分布，

(II)在每個(gè)所述催化劑顆粒的橫截面上，同時(shí)滿足如下的關(guān)系式(1)和(2)：

關(guān)系式(1)：C^A_out>C^A_1／2>1，優(yōu)選C^A_out＞C^A_1／4>C^A_1／2>C^A_3／4>1，更優(yōu)選C^A_out>C^A_opt>1，更優(yōu)選C^A_out／C^A_1／2=1.5-2.6，優(yōu)選為1.7-2.5，進(jìn)一步優(yōu)選C^A_out／C^A_1／4=1.2-1.8，優(yōu)選為1.3-1.7，進(jìn)一步優(yōu)選C^A_1／4／C^A_1／2＝1.1-1.7，優(yōu)選為1.2-1.6，

關(guān)系式(2)：C^A_out≥1.5，優(yōu)選C^A_out≥2.0，更優(yōu)選C^A_out≥2.4，但是C^A_out≤5.0，優(yōu)選C^A_out≤4.0，

其中C^A_out是所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面的最外緣上任意位置點(diǎn)P_A處的濃度與所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，設(shè)在該催化劑顆粒的橫截面上連接所述中心點(diǎn)與所述位置點(diǎn)P_A的直線線段的長(zhǎng)度是L_A，C^A_1／2是所述活性金屬組分A在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_A為(1／2)L_A處的濃度與所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^A_1／4是所述活性金屬組分A在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_A為(1／4)L_A處的濃度與所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^A_3／4是所述活性金屬組分A在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_A為(3／4)L_A處的濃度與所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^A_opt是所述活性金屬組分A在所述直線線段上任意位置點(diǎn)(不包括所述中心點(diǎn)和所述位置點(diǎn)P_A)處的濃度與所述活性金屬組分A在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，

并且，所述活性金屬組分B的濃度分布滿足以下條件(III)或(IV)之一，

(III)在每個(gè)所述催化劑顆粒的橫截面上基本上均勻分布，

(IV)在每個(gè)所述催化劑顆粒的橫截面上，同時(shí)滿足如下的關(guān)系式(3)和(4)：

關(guān)系式(3)：C^B_out<C^B_1／2<1，優(yōu)選C^B_out<C^B_1／4<C^B_1／2<C^B_3／4<1，更優(yōu)選C^B_out<C^B_opt<1，更優(yōu)選C^B_out／C^B_1／2=0.2-0.8，優(yōu)選為0.2-0.7，進(jìn)一步優(yōu)選C^B_out／C^B_1／4=0.3-0.9，優(yōu)選為0.3-0.85，進(jìn)一步優(yōu)選C^B_1／4／C^B_1／2=0.4-0.9，優(yōu)選為0.4-0.87，

關(guān)系式(4)：C^B_out≤0.80，優(yōu)選C^B_out≤0.70，優(yōu)選C^B_out≤0.68，優(yōu)選C^B_out≤0.60，但是C^B_out≥0.10，優(yōu)選C^B_out≥0.20，

其中C^B_out是所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面的最外緣上任意位置點(diǎn)P_B處的濃度與所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，設(shè)在該催化劑顆粒的橫截面上連接所述中心點(diǎn)與所述位置點(diǎn)P_B的直線線段的長(zhǎng)度是L_B，C^B_1／2是所述活性金屬組分B在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_B為(1／2)L_B處的濃度與所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^B_1／4是所述活性金屬組分B在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_B為(1／4)L_B處的濃度與所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^B_3／4是所述活性金屬組分B在所述直線線段上距離所述位置點(diǎn)P_B為(3／4)L_B處的濃度與所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，C^B_opt是所述活性金屬組分B在所述直線線段上任意位置點(diǎn)(不包括所述中心點(diǎn)和所述位置點(diǎn)P_B)處的濃度與所述活性金屬組分B在該催化劑顆粒的橫截面上中心點(diǎn)處的濃度的比值，

前提是，所述活性金屬組分A的濃度分布和所述活性金屬組分B的濃度分布不同時(shí)滿足前述條件(I)和(III)，

優(yōu)選的是，所述活性金屬組分A的濃度分布滿足前述條件(II)，同時(shí)所述活性金屬組分B的濃度分布滿足前述條件(IV)。