[發(fā)明專利]衰減圖及正電子發(fā)射斷層圖像生成方法和裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310533167.X
• 申請日: 2013-10-30
• 公開（公告）號: CN104586416A
• 公開（公告）日: 2015-05-06
• 發(fā)明（設計）人: 徐天藝;董曉霞
• 申請（專利權）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號: A61B6/03
• 分類號: A61B6/03
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術領域

本發(fā)明涉及醫(yī)療技術領域，具體涉及一種衰減圖以及正電子發(fā)射斷層圖像的生成方法和裝置。

背景技術

正電子發(fā)射斷層成像術（Positron?Emission?Tomography，PET）是目前惟一采用解剖形態(tài)方式進行功能、代謝和受體顯像的技術，現(xiàn)已廣泛用于多種疾病的診斷治療中。

PET利用了正電子發(fā)射體和正電子湮滅的特征，以量化地確定器官和細胞區(qū)域的功能。利用PET技術，在檢查之前，對患者給予具有放射性同位素的合適的放射性藥物標記物。隨著它們衰減，放射性同位素放射出正電子，所述正電子在經(jīng)過一個短的距離之后與人體組織中的負電子相互作用，發(fā)生湮滅輻射。湮滅輻射的過程中，產(chǎn)生兩個能量相等、方向相反的γ光子，所述γ光子在患者體內(nèi)產(chǎn)生γ射線。

以不同角度探測患者體內(nèi)的γ射線分布情況，由此采集到的數(shù)據(jù)用于形成患者體內(nèi)放射性同位素分布的圖像，稱為PET發(fā)射圖像，這一圖像的形成過程稱為圖像重建。

PET成像過程中，由于受康普頓效應、散射、偶然符合事件、死時間等衰減因素的影響，所述采集到的數(shù)據(jù)與實際情況并不一致，由此計算形成的PET發(fā)射圖像失真。因此，必須采用有效措施進行校正，才能得到更真實的醫(yī)學影像。

目前，通常采用計算機斷層成像術（Computed?Tomography，CT）對PET發(fā)射圖像進行衰減校正。利用CT技術獲取γ射線在人體組織中的衰減信息，根據(jù)獲取到的衰減信息生成衰減圖，從而利用所述衰減圖對PET發(fā)射圖像的進行衰減校正，以獲得更均勻、清晰度更高、圖像質(zhì)量更好的PET圖像。

然而，利用CT技術對PET發(fā)射圖像進行衰減校正，需要附加應用所述CT技術的設備，增加了相應的成本以及操作上的復雜度。并且，CT技術的使用，導致患者受到了更高的輻射暴露，患者的安全性受到一定程度的影響。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實施例所解決的問題是如何在不借助CT技術的情況下為均勻模體生成衰減圖。

為解決上述問題，本發(fā)明實施例提供一種均勻模體衰減圖的生成方法，所述方法包括：

確定所生成的均勻模體的正電子發(fā)射斷層PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的像素點，獲得所述像素點的位置信息；

采用所述像素點的位置信息以及所獲取的所述均勻模體的衰減值，生成所述PET發(fā)射圖像的衰減圖。

可選地，所述確定所生成的均勻模體的PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的像素點，包括：

確定所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的輪廓區(qū)，將所述輪廓區(qū)上以及輪廓區(qū)內(nèi)的像素點作為所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的像素點。

可選地，所述確定所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的輪廓區(qū)，包括：

獲取所述PET發(fā)射圖像上像素點的像素值，所述像素值包括最大像素值，將大于等于預設的第一閾值的像素值所對應的所述PET發(fā)射圖像上的像素點作為第一輪廓區(qū)，所述第一閾值為小于等于所述最大像素值的像素值；

調(diào)整所述第一閾值，獲得調(diào)整后的第一閾值所對應的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點的個數(shù)與所述均勻模體上對應所述PET發(fā)射圖像的位置的像素點的個數(shù)之間的差值；

將所述差值最小時所對應的第一輪廓區(qū)作為所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

可選地，所述調(diào)整所述第一閾值，獲得調(diào)整后的第一閾值所對應的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點的個數(shù)與所述均勻模體上對應所述PET發(fā)射圖像的位置的像素點的個數(shù)之間的差值，包括：

以所述最大像素值為所述第一閾值的初始值，減小所述第一閾值，獲得第一差值和第二差值，直至所述第二差值大于所述第一差值，所述第一差值為前一次減小后的第一閾值所對應的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點的個數(shù)與所述均勻模體上對應所述PET發(fā)射圖像的位置的像素點的個數(shù)之間的差值，所述第二差值為當前一次減小后的第一閾值所對應的第一輪廓區(qū)上以及第一輪廓區(qū)內(nèi)像素點的個數(shù)與所述均勻模體上對應所述PET發(fā)射圖像的位置的像素點的個數(shù)之間的差值；

將所述差值最小時所對應的第一輪廓區(qū)作為所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的輪廓區(qū)，包括：將所述第一差值所對應的第一輪廓區(qū)作為所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的輪廓區(qū)。

可選地，所述減小所述第一閾值包括：每次減小所述第一閾值的比例為1%至5%。

可選地，所述確定所述PET發(fā)射圖像上構成所述均勻模體的像素點，包括：

獲取所述PET發(fā)射圖像上像素點的像素值；