[發明專利]一種超疏水性復合膜的制造方法

有效

• 申請號: 201310531218.5
• 申請日: 2013-11-01
• 公開（公告）號: CN103551051A
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 白永平;邵志敏;丁麗萍
• 申請（專利權）人: 無錫海特新材料研究院有限公司
• 主分類號: B01D69/12
• 分類號: B01D69/12;B01D71/68;B01D67/00
• 代理公司: 蘇州廣正知識產權代理有限公司 32234
• 代理人: 劉述生

1.一種超疏水性復合膜的制造方法，其特征在于，所述超疏水性復合膜包括基膜層、粘結層和疏水層，所述基膜層、所述粘結層和所述疏水層依次連接，所述基膜層的材料為聚芳楓，所述粘結層的材料為氟乙烯-乙烯基醚聚合物，所述疏水層的材料為聚氯乙烯；

（1）對鎳表面進行脈沖激光刻蝕，在所述脈沖激光刻蝕過程中，所述鎳表面刻蝕微槽的寬度由脈沖激光光斑的寬度確定，所述鎳表面的刻蝕深度由激光的脈沖能量和重復刻蝕的次數確定，將刻蝕后的鎳表面用超聲波清洗干凈，自然晾干得到具有微米-納米復合結構的鎳表面；

（2）將所述具有微米-納米復合結構的鎳表面浸入到聚氯乙烯的甲苯溶液中，靜置放置2-4小時，取出后靜置晾干后在所述鎳表面形成厚度為0.4-0.8mm的聚氯乙烯薄膜，對所述鎳表面進行加熱20-30分鐘，所述加熱溫度為170-180℃，再將步驟（1）得到的具有微米-納米復合結構的鎳表面與具有軟化聚氯乙烯的鎳表面對應相壓，印壓進行12-14秒，取下后得到疏水層；

（3）將聚芳楓和硅烷偶聯劑γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷溶于N-甲基吡咯烷酮和一縮二乙二醇的混合溶劑中，所述N-甲基吡咯烷酮和所述一縮二乙二醇的體積比為1:0.5-1.5，攪拌8-10小時后得到混合液，其中所述聚芳楓的粒徑為30μm-100nm，將所述混合液涂覆在載玻片上，干燥得到基膜層；

（4）將氟乙烯-乙烯基醚聚合物溶于甲苯中，涂覆在基膜層上，得到粘結層，再將疏水層覆蓋在粘結層上，得到超疏水性復合膜。

2.根據權利要求1所述的超疏水性復合膜的制造方法，其特征在于，步驟（2）中靜置放置3小時，取出后靜置晾干后在所述鎳表面形成厚度為0.6mm的聚氯乙烯薄膜。

3.根據權利要求1所述的超疏水性復合膜的制造方法，其特征在于，步驟（2）中對所述鎳表面的加熱時間為26分鐘，所述加熱溫度為177℃。

4.根據權利要求1所述的超疏水性復合膜的制造方法，其特征在于，步驟（3）中所述N-甲基吡咯烷酮和所述一縮二乙二醇的體積比為1:1.2。