[發(fā)明專利]利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310530771.7 | 申請日： | 2013-10-31 |
| 公開（公告）號： | CN103521081A | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發(fā)明（設計）人： | 江進;龐素艷;馬軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 哈爾濱工業(yè)大學 |
| 主分類號： | B01D65/06 | 分類號： | B01D65/06 |
| 代理公司： | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人： | 侯靜 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 利用 活性 單線 清洗 污染 方法 | ||
1.利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法是通過以下步驟實現(xiàn)的：a、將待清洗的受污染膜組件放入裝有自來水的池子中；b、將固體漂白粉和無機固體過氧化物按照質(zhì)量比為(1～10):1的比例加入到步驟一的池子中，攪拌均勻，在過氧化物濃度為50～1000mg/L，膜組件浸泡時間為10～180min的條件下，進行膜組件清洗；c、將清洗好的膜組件放入另一個裝有自來水的池子中進行漂洗，即完成了利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的無機固體過氧化物為過氧化鈣、過氧化鎂、過氧化鋇、過碳酸鈉和過碳酸鉀中的一種或幾種按任意比混合的混合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的固體漂白粉與無機固體過氧化物的質(zhì)量比為(2～9):1。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的固體漂白粉與無機固體過氧化物質(zhì)量比為(3～8):1。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的固體漂白粉與無機固體過氧化物的質(zhì)量比為(4～7):1。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的固體漂白粉與無機固體過氧化物的質(zhì)量比為(5～6):1。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的無機固體過氧化物濃度為20～800mg/L。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的無機固體過氧化物濃度為40～600mg/L。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的無機固體過氧化物濃度為60～400mg/L。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的利用高活性單線態(tài)氧清洗膜污染的方法，其特征在于所述的無機固體過氧化物濃度為80～200mg/L。
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