[發明專利]利用統計定時對多圖案變化性建模

有效

• 申請號: 201310529473.6
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN103793546B
• 公開（公告）日: 2017-08-29
• 發明（設計）人: N.巴克;B.德雷貝爾比斯;J.P.杜布奎;E.A.福爾曼;P.A.哈比茨;D.J.哈撒韋;J.G.赫梅特;N.文凱特斯沃蘭;C.維斯韋斯瓦里亞;V.佐洛托夫
• 申請（專利權）人: 國際商業機器公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50;G06F9/44
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 勵曉林

1.一種用于對多圖案變化性建模的方法，所述方法，包括：

定義集成電路設計中的變化的至少一個來源；

將所述集成電路設計的至少一個級別中的至少兩個圖案的變化的至少一個來源分別建模為變化性的至少兩個來源；

查詢與所述集成電路設計的至少一個級別的變化的至少一個來源相關聯的制造測量；以及

基于所述制造測量，定義修改用于所述集成電路設計的至少一個級別的變化的至少一個來源的偏移和縮放因子，其中，所述建模包括：使用所述偏移和縮放因子，對變化性的至少兩個來源建模。

2.如權利要求1所述的方法，還包括：

基于所述制造測量，定義所述集成電路設計的至少一個級別的相關系數，

其中，所述建模包括：使用所述相關系數，對變化性的至少兩個來源建模。

3.如權利要求2所述的方法，還包括：

提取寄生參數；以及

使用變化性的至少兩個來源的模型和寄生參數，執行所述集成電路設計的統計靜態定時分析SSTA。

4.如權利要求3所述的方法，其中，所述寄生參數是顏色感知的寄生參數。

5.如權利要求1所述的方法，其中，變化性的至少兩個來源各自包括變化的至少一個來源的平均分布、對變化的至少一個來源的全局分布的敏感度、對變化的至少一個來源的空間分布的敏感度、以及對變化的至少一個來源的隨機分布的敏感度。

6.如權利要求1所述的方法，其中，通過至少兩個不同的光掩模來創建至少兩個圖案。

7.如權利要求1所述的方法，還包括：生成包括變化性的至少兩個來源的報告。

8.一種用于優化集成電路的設計布局的方法，該方法包括：

查詢與集成電路設計的至少一個級別中的至少兩個圖案的變化的至少一個來源相關聯的制造測量；

定義集成電路設計中的變化的至少一個來源；

將所述集成電路設計的至少一個級別中的至少兩個圖案的變化的至少一個來源分別建模為變化性的至少兩個來源；

從所述制造測量確定分布是否已基于當前應用的分布而偏移；

斷言對隨機變量的標準化偏移和/或縮放，以對分布的差異建模；以及

基于分布的差異的模型，優化所述集成電路的設計布局，

其中，使用處理器來執行查詢制造測量；

其中，所述方法還包括：

基于所述制造測量，定義修改用于所述集成電路設計的至少一個級別的變化的至少一個來源的偏移和縮放因子，其中，所述建模包括：使用所述偏移和縮放因子，對變化性的至少兩個來源建模。

9.如權利要求8所述的方法，還包括：基于所述制造測量，定義所述集成電路設計的至少一個級別的相關系數，其中，所述建模包括：使用所述相關系數，對分布的差異建模。

10.如權利要求8所述的方法，還包括：

提取寄生參數；以及

使用分布的差異的模型和寄生參數，執行所述集成電路設計的統計靜態定時分析SSTA。

11.如權利要求10所述的方法，其中，所述寄生參數是顏色感知的寄生參數。

12.如權利要求8所述的方法，其中，變化的至少一個來源包括變化的至少一個來源的平均分布、對變化的至少一個來源的全局分布的敏感度、對變化的至少一個來源的空間分布的敏感度、以及對變化的至少一個來源的隨機分布的敏感度。

13.如權利要求8所述的方法，其中，通過至少兩個不同的光掩模來創建至少兩個圖案。