[發(fā)明專利]觸控面板的制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310529432.7
• 申請日: 2013-10-31
• 公開（公告）號: CN103809804A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 郭曉文;許力介;陳維釧
• 申請（專利權(quán)）人: 杰圣科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京三幸商標(biāo)專利事務(wù)所(普通合伙) 11216
• 代理人: 劉激揚(yáng)

1.一種觸控面板的制造方法，其包括下列步驟：

提供一基板，該基板上依次形成透明導(dǎo)電層以及至少一金屬層；

在該至少一金屬層上形成光刻膠層，并圖案化該光刻膠層；

蝕刻該至少一金屬層，以露出局部的該透明導(dǎo)電層；

以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層；

蝕刻該透明導(dǎo)電層；以及

蝕刻并圖案化該至少一金屬層，經(jīng)轟擊及蝕刻后的該透明導(dǎo)電層形成多個感測串列。

2.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中該光刻膠層借由網(wǎng)版印刷法、噴涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法或狹縫式涂布法所形成。

3.如權(quán)利要求1或2所述的觸控面板的制造方法，其中該光刻膠層為正型光刻膠或負(fù)型光刻膠。

4.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中該透明導(dǎo)電薄膜層為結(jié)晶型銦錫氧化物。

5.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中該以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層的步驟為使用大氣等離子體、低壓等離子體、高溫等離子體或低溫等離子體進(jìn)行轟擊。

6.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中該以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層的步驟為被執(zhí)行用以改變該透明導(dǎo)電層的表面能。

7.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中該以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層的步驟為被執(zhí)行用于等離子體蝕刻該透明導(dǎo)電層的表面。

8.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中于該以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層的步驟中所使用的氣體為氮?dú)狻鍤狻⒀鯕饣蚱浠旌蜌怏w。

9.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中執(zhí)行該以等離子體轟擊該透明導(dǎo)電層的步驟的時間為10秒至5分鐘。

10.如權(quán)利要求1所述的觸控面板的制造方法，其中前述這些步驟均采用卷對卷制程。