[發明專利]一種親水性青黛及其制備方法有效
| 申請號: | 201310528983.1 | 申請日: | 2013-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN103536633A | 公開(公告)日: | 2014-01-29 |
| 發明(設計)人: | 郭治平;張定堃;王達賓;劉劍云;王勇;卿成讓;鄒俊波 | 申請(專利權)人: | 成都科爾醫藥技術有限公司;四川厚德醫藥科技有限公司 |
| 主分類號: | A61K36/195 | 分類號: | A61K36/195;A61K36/704;A61K36/315 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 親水性 青黛 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種親水性青黛(飲片)及其制備方法。
背景技術
青黛為爵床科馬藍、蓼科植物蓼藍、十字花科植物菘藍的葉或莖葉經發酵、打靛、水飛加工制得的干燥粉末、團塊或顆粒。功效為清熱解毒、涼血止血、清肝瀉火,用于溫病熱盛、斑疹、吐血、咯血、小兒驚癇、瘡腫、丹毒、濕疹等病癥有良好的效果。隨著對青黛研究的深入,其治療范圍不斷擴大,廣泛應用于內、外、婦、兒、傳染科病癥。目前青黛的臨床實際用法主要由以下幾種:中成藥、外用、入湯劑沖服和與他藥共煎后服用,其中臨床醫師的處方中大多為后者。
通過中醫文獻考證,古代青黛臨床用法多為入丸散用,如《衛生鴻寶方》黛蛤散、《醫學從眾錄》青黛蛤粉丸、《普濟方》青金散、《醫宗金鑒》必勝散等。通過對《本草綱目》、《中藥大辭典》和華海清的《青黛的古今應用》中58個青黛的方劑,通過統計發現,青黛入湯劑煎服的有8個,占總體的13.79%,入湯劑沖服的有2個,占總體的3.45%,剩下的48個方中皆為丸散,占總體的82.76%,可見青黛在古代臨床用法多入丸散用。
當代中醫兒科及其他臨床各科中,青黛大劑量入湯劑治療小兒高熱神昏、肺熱咳嗽、斑毒痄腮、腫瘤等癥,屢見奇效。因上述兒科癥狀皆為急癥,而丸劑有“丸者,緩也”的特點,崩解遲緩,不適宜于急救,且在患者昏迷時給藥困難。散劑則不宜于小兒給藥,粉末易吸附于口腔,被吸入支氣管和肺中,引起反射性咳嗽。而湯劑則能克服上述丸散劑的不足。因此,當代臨床中醫多選擇青黛入湯劑。加之當代的權威著作《中藥大辭典》謂青黛“內服煎湯、或入丸散;外用干撒或調敷”。可見,古今中醫臨床青黛的用法正發生悄然轉變。
青黛“體輕質松”,顆粒較小,比重較輕,比表面積較大;在微觀結構上,疏水性強的靛藍等有機物大量吸附在多孔疏松的CaCO3表面,使得青黛漂浮于水面,不易潤濕、進入水中。在湯劑中,青黛的疏水性使得其大量漂浮于藥液表面,在過濾過程中大量損失,嚴重影響了實際攝入量,從而降低了生物利用度,造成了藥材資源的浪費。因此,亟需一種新技術來克服青黛的不足,增強其親水性,節約藥材,更好地服務于中醫臨床。
發明內容
本發明的目的在于提供一種親水性強的新型青黛。本發明還提供了親水性青黛的制備方法。
本發明提供了一種親水性青黛,所述親水性青黛含有0.3%w/w以上的活化劑;所述活化劑中同時含有親脂性基團烴基和親水性基團。
進一步地,所述活化劑為醇類溶劑或/和表面活性劑。
更進一步地,所述醇類溶劑為含C1-10直鏈或支鏈的醇類溶劑,優選為甲醇、乙醇、無水乙醇、丙醇、正丁醇、乙二醇、甘油、上述醇類溶劑的含水溶劑或多種醇類的混合物,更優選為95%v/v乙醇;所述表面活性劑為陰離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑或非離子表面活性劑,優選為十二烷基硫酸鈉、苯扎溴銨、吐溫、司盤、季銨化物、卵磷脂或氨基酸。
本發明還提供了上述親水性青黛的制備方法,操作步驟如下:取青黛,在粉碎過程中,與活化劑同時粉碎,除去剩余活化劑,即得親水性青黛。
本發明所述“剩余活化劑”是指在粉碎過程中未與青黛結合的活化劑,也可稱為游離活化劑,去除手段可以采用常規固液分離法。
本發明研究表明,活化劑可以與青黛在粉碎等機械力作用下相互結合,有效提高青黛的潤濕性,從而提高其在水中的分散性。
進一步地,所述活化劑為醇類溶劑或/和表面活性劑。
更進一步地,所述醇類溶劑為含C1-10直鏈或支鏈的醇類溶劑,優選為甲醇、乙醇、無水乙醇、丙醇、正丁醇、乙二醇、甘油、上述醇類溶劑的含水溶劑或多種醇類的混合物,更優選為95%v/v乙醇;所述表面活性劑為陰離子表面活性劑、陽離子表面活性劑、兩性離子表面活性劑或非離子表面活性劑,優選為十二烷基硫酸鈉、苯扎溴銨、吐溫、司盤、季銨化物、卵磷脂或氨基酸。
其中,所述粉碎是采用振動磨、球磨機或棍式研磨機進行的。
進一步地,所述活化劑的加入量為青黛重量的3%以上,優選為10~19%。
進一步地,采用振動磨粉碎的時間為1-60min;優選為20-40min;更優選為23min。
更進一步地,振動磨粉碎過程中,介質填充率30-95%,介質材質為不銹鋼、特種不銹鋼或陶瓷,介質形狀為圓柱形、球狀;振幅2-6mm;工作溫度-160~80℃;優選地,介質填充率為80%、柱狀不銹鋼介質,振幅4mm,工作溫度-20℃。
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