[發(fā)明專利]一種基板烘烤支承裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310528834.5 | 申請日: | 2013-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN104600018A | 公開(公告)日: | 2015-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 程虎 | 申請(專利權(quán))人: | 沈陽芯源微電子設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/687 | 分類號: | H01L21/687;H01L21/67;G03F7/16;G03F7/38;G03F7/40 |
| 代理公司: | 沈陽科苑專利商標(biāo)代理有限公司 21002 | 代理人: | 何麗英 |
| 地址: | 110168 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 烘烤 支承 裝置 | ||
1.一種基板烘烤支承裝置,其特征在于:包括裝置支撐部(5)、小尺寸基板支承部、大尺寸基板支承部、加熱部(7)、加熱系統(tǒng)、升降部(6)及升降控制系統(tǒng),其中加熱部(7)設(shè)置于裝置支撐部(5)上、并與加熱系統(tǒng)連接,所述小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部均穿過加熱部(7)、并下端與升降部(6)連接,所述升降部(6)設(shè)置于裝置支撐部(5)與加熱部(7)之間、并與升降控制系統(tǒng)連接,所述大尺寸基板支承部的高度高于小尺寸基板支承部;所述大尺寸基板支承部和小尺寸基板支承部在升降部(6)的帶動下上升和下降。
2.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述加熱部(7)上設(shè)有溫度感應(yīng)部(13),所述溫度感應(yīng)部(13)與溫度監(jiān)控部(15)連接。
3.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述小尺寸基板支承部包括小尺寸基板支承部I(9A)、小尺寸基板支承部II(9B)及小尺寸基板支承部III(9C),所述小尺寸基板支承部I(9A)、小尺寸基板支承部II(9B)及小尺寸基板支承部III(9C)分布在同一圓周上,所述分布圓周直徑比所需支承的小尺寸基板(11)的外緣直徑小。
4.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述大尺寸基板支承部包括大尺寸基板支承部I(8A)、大尺寸基板支承部II(8B)及大尺寸基板支承部III(8C),所述大尺寸基板支承部I(8A)、大尺寸基板支承部II(8B)及大尺寸基板支承部III(8C)分布在同一圓周上,所述分布圓周直徑比所需支承的大尺寸基板(10)的外緣直徑小。
5.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部的上表面與升降部(6)之間的距離可調(diào)節(jié)。
6.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述升降控制系統(tǒng)包括升降驅(qū)動部(3)和升降控制部(1),所述升降控制部(1)與升降驅(qū)動部(3)連接、并控制升降驅(qū)動部(3)的升降,所述升降驅(qū)動部(3)與小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部連接。
7.按權(quán)利要求6所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述升降驅(qū)動部(3)上由下至上依次設(shè)有定位器I(2)和定位器II(4),所述定位器I(2)控制小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部下降的最低位置,所述定位器II(4)控制小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部上升的最高位置。
8.按權(quán)利要求7所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部處于最低位置時,小尺寸基板支承部和大尺寸基板支承部的上表面高于加熱部(7)的上表面。
9.按權(quán)利要求1所述的基板烘烤支承裝置,其特征在于:所述加熱系統(tǒng)包括加熱源(12)和加熱控制部(14),其中加熱源(12)嵌入到加熱部(7)的內(nèi)部、并與加熱控制部(14)連接。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





